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公眾號:chem17
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產品簡介
| 產地類別 | 進口 | 應用領域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,生物產業(yè),電子/電池,制藥/生物制藥 |
Plasma Asher等離子去膠機
NPC-3500(A)研發(fā)用等離子去膠機概述:NANO-MASTER 等離子刻蝕和清洗系統(tǒng)是專門設計用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應用,從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設備采用PC控制,可以配套不同的等離子源,加熱或不加熱基片夾具,具有*的能力:可以從PE等離子刻蝕切換到RIE刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應用。
NPC-3500(A)研發(fā)用等離子去膠機產品特點
研發(fā)用等離子去膠機應用:
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