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內容聲明：
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產品簡介
RMS-1000P高溫四探針測量系統詳細信息
Partulab RMS-1000P高溫四探針測量系統主要用于評估半導體薄膜和薄片的導電性能，該系統采用直排四探針測量原理和單晶硅物理測試方法國家標準并參考美國A.S.T.M標準設計研發，可以實現高溫、真空及惰性氣氛條件下測量硅、鍺 單晶（棒料、晶片）電阻率和硅外延層、擴散層和離子注 入層的方塊電阻以及測量導電玻璃（ITO）和其它導電薄膜的方塊電阻和電阻率。該系統廣泛應用于高校科研院所和企業單位半導體薄膜和薄片材料電學性能研究。
技術規范：
測量溫度：RT-1000℃ | 測量組合：四探針雙電測組合測量 |
升溫斜率：0-10℃/min (典型值：3℃/min) | 樣品尺寸：φ15~30mm，d＜4mm薄片或薄膜 |
控溫精度：±0.5℃ | 電極材料：碳化鎢針 |
電阻測量范圍：0.1mΩ~1MΩ | 針尖絕緣電阻：≥1000MΩ |
電阻率測量范圍：0.01mΩ.cm~100KΩ.cm | 絕緣材料：99氧化鋁陶瓷 |
電導率測量范圍：0.00001s/cm~100000s/cm | 供電：220V±10%，50Hz |
功能特點：
★ 高溫爐膛、測量夾具、顯示及軟件集成于一體，測量精度更高，儀器更加穩定且易維護；
★RMS系列機型采用RAM嵌入式開發平臺，可以進行在線升級、遠程協助及故障診斷；
★多功能真空電學加熱爐可實現高溫、真空、氣氛測量環境；
★ 爐膛采用進口金屬材料，耐高溫、抗氧化，可實現多種環境下的電學測量；
★采用三段PID精確控溫，實現不同溫度區間的精確控溫，控溫精度達到±0.5℃；
★爐膛升溫故障診斷監控設計，隨時監測爐膛運行情況
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