電感耦合等離子體發射光譜儀（ICP-OES）的用途主要有四種：
用于等離子體光譜診斷：通過分析ICP源的光譜來分析等離子體原子組分，參見電感耦合等離子體原子發射光譜（ICP-AES）；
電感耦合等離子體發射光譜儀（ICP-OES）分析技術：作為質譜分析的離子源，分析組分（ICP-MS）；
用于反應離子刻蝕：通過ICP源產生低溫等離子體，刻蝕材料表面，改變材料的物理與化學性質(ICP-RIE)；
氣相沉積薄膜技術（rf-ICP）。

組成
主要包括等離子體炬管、高頻發生器（產生高頻電流）、感應圈、供氣系統和霧化系統。炬管由三層同心石英玻璃管組成。外管內切向通入的氬氣為等離子體工作氣或冷卻氣。中管通入的氬氣為輔助氣。內管中的氬氣為載氣，將試樣氣溶膠引入炬中。