紫外臭氧清洗機（UVO）

目前紫外臭氧清洗機的主要應用表面UV光清洗和表面UV光改質。

u 表面UV光清洗：利用紫外光以及由其產生的臭氧OZONE，對有機物質所起的光敏氧化分解作用，以達到去除粘附在物體表面上的有機化合物（碳氫化合物），獲得超潔凈的表面。

u 表面UV光改質：利用紫外光照射有機表面，在將有機物分解的同時，254nm波長的紫外光被物體表面吸收后，將表層的化學結構切斷，光子作用產生原子氧會與被切斷的表層分子結合，并將之變換成具有高度親水性的官能基（如-OH，-CHO，-COOH），從而提高表面的浸潤性。

主要應用

• 石英/玻璃制品的表面清洗：液晶面板,等離子電視屏幕,彩色過濾片,光罩,棱鏡,透鏡,反射鏡,平板電視等。
• 微電子產品的表面清洗：微型馬達軸,磁頭驅動架,光盤,光電器件,手機攝像頭,微型喇叭/受話器震膜,半導體硅片,掩膜版。
• 精密集成電路的表面清洗：液晶顯示器ITO,精密電路板,軟性電路板接頭,BGA基板的清洗,COG的清洗,COF(ILB)接合面的清洗,薄膜基板的清洗,金屬基板的清洗,BGA基板與粘結墊的清洗。
• 在膠粘接或是印刷之前，對高分子聚合制品的表面改性：橡膠粘接，塑料汽車部件，透鏡保護膜,塑料薄膜,樹脂成型空氣袋,IC包裝,注射針接合部份的表面性,介入導管的表面改型等。
• 科研過程的表面清洗及處理：半導體，生物芯片，納米材料，聚合物，光化學等。              

產品特點

• 成本低。
• 120x120mm樣品臺。
• 大處理樣品高14mm。
• 抽屜式樣品臺，簡單方便。                                 
• 樣品臺自動安全開關,打開UV自動關閉，防止對人身傷害。               
• LCD屏顯示“已用時間”和“剩余時間”。
• 60分鐘定時器。
• 高強度UV燈源。
• 可控溫的樣品臺。
• 樣品清洗無需溶劑。
• 超凈表面。                                                                                 

二、技術參數

在紫外線臭氧清洗前水滴在OTS-treated硅基質上(300nm二氧化硅表面)(左)紫外臭氧清洗10分鐘后(右)。