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內容聲明：
您訪問的CTS AP-200 CMP化學機械拋光機產品信息，由北京億誠恒達科技有限公司自行發布提供，產品價格為面議，如您想了解更多關于CTS AP-200 CMP化學機械拋光機型號、參數、用途等信息，歡迎咨詢。
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產品簡介
CTS AP-200 CMP化學機械拋光機產品參數
| 應用領域 | 醫療衛生,環保,化工,農林牧漁,石油 |
CTS AP-200 CMP化學機械拋光機詳細信息
CTS AP-200 CMP化學機械拋光機
主要技術參數：
- 拋光平臺轉速：0-200 rpm
- 拋光頭載體轉速：0-200 rpm
- 整理器轉速：0-150 rpm
- 拋光液流速：20-500 cc/min
- 整理器下壓力：2- 20 lbs
2. 工藝數據可實時監測；
3.多種拋光液 & 高壓去離子水系統
- 內置兩個共給拋光液的泵單元
- 拋光液材質：氧化物，鎢，銅，二氧化鈰等
- 流量：20?500cc / min
- 雙排噴嘴排列布置，具有高壓清潔效果
- 通過各種不同噴嘴角度，更干凈的清洗拋光墊
CTS AP-200 CMP化學機械拋光機
應用領域：
- ILD（層間電介質）CMP，IMD（金屬間電介質）CMP，氧化物CMP，多晶硅CMP，鎢CMP，銅CMP
- 半導體CMP 工序（Semiconductor CMP）
- MEMS CMP
- 高校及科研院所高品質科研測試（University, Lab _High Quality Performance Test）
- 晶片研磨代工企業（Wafer Polishing Service）
- CMP耗材研發企業（CMP Consumable Parts），CMP拋光液，金剛石研磨墊整理器，CMP研磨墊
售后服務
免費上門安裝：是
保修期：1年
是否可延長保修期：是
保內維修承諾：設備保修期內不收取零部件及其它費用，實行保修服務。并提供設備終身售后服務
報修承諾：接到用戶通知后，2小時內做出響應，24小時內給出明確解決方案
免費儀器保養：用戶使用半年后，將安排一次應用培訓以使用戶達到熟練使用設備程度
免費培訓：3人次現場培訓
現場技術咨詢：有
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