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產品簡介
| 應用領域 | 電子/電池,電氣 |
平面刻劃衍射光柵在特定波長下以一階 Littrow 結構閃耀,以獲得大效率。刻劃反射光柵特別適用于需要高分辨率的光學系統。
150 每毫米凹槽數
500 nm 標稱閃耀波長
2.2° 標稱閃耀角
默認 1055 光柵母版,需要特定母版請聯系我們
平面刻劃反射光柵在以 Littrow 結構的設計波長附近使用時(即對準以便使主要衍射級的衍射角與輸入光束一致)有效率,對于特定波長,有效的起到了回射器的作用。對于閃耀光柵,可在與閃耀光柵面垂直角度的 Littrow 條件的波長處獲得大效率。由于刻劃閃耀光柵不對稱,因此正確的取向由基板尺寸上的箭頭標記來表示。箭頭在基板垂直于刻劃槽的一側,并且指向三角形槽輪廓的更陡峭的邊緣。類似地,箭頭指向遠離光柵法線朝向面法線。箭頭應指向入射(和衍射)光束。
一般來說,對于刻劃衍射光柵,槽間距決定衍射角,并且槽深度和閃耀角決定衍射能量在衍射級之間如何分布。設計用于一階 Littrow,Newport 的平面刻劃反射光柵閃耀,以在特定設計波長實現高的單階衍射效率。在 Newport,我們有三種刻劃引擎全日制運轉,每種引擎都用于生產高質量的主光柵。這些劃線機提供的光柵具有三角形槽輪廓、極低的羅蘭鬼線和高分辨率。使用金剛石工具對機械刻劃單個槽的蒸汽金屬薄涂層拋光。利用多年研究和制造經驗而開發和增強的高保真鑄造復制過程,我們有能力提供主光柵的副本,其質量和性能與主光柵相同。
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