產(chǎn)品概述

GU-AI9000 是可獲得納米級別薄片的離子減薄儀，是透射電鏡樣品制備流程中的微納加工儀器，可將大部分金屬、陶瓷、涂鍍層等材料加工成厚度小于 200nm 的薄片。

產(chǎn)品特點

1. 兩個離子源，可獨立控制，屬于無磁聚集型，離子束斑大，電壓、電流穩(wěn)定，適用于各種不同材料的透射電鏡樣品前處理。

2. 采用全進口的隔膜泵和半磁懸浮分子泵，為樣品倉提供高真空、穩(wěn)定的實驗環(huán)境。同時泵體體積更小，整體外觀占地更少，更方便使用。（國產(chǎn)沒有相應穩(wěn)定、高真空的真空泵，故此核心部件仍選用進口產(chǎn)品）。

3. 半導體制冷，可達-25℃，在不使用液氮制冷的情況下，已能滿足大部分樣品的需求。

4. 全中文操作界面，經(jīng)過多個版本的測試，系統(tǒng)操作方便、簡單、穩(wěn)定。

5. 可通過網(wǎng)線或 wifi 聯(lián)接網(wǎng)絡，實現(xiàn)遠程操作及觀測運行情況，且便于售后及時監(jiān)測維護。

6. 外觀設計新穎，占地小，便于擺放。

7. 可根據(jù)應用需求更新各種硬件和軟件設計，包括夾具、觀察系統(tǒng)、軟件和應用方案等，提供優(yōu)質(zhì)的、更有針對性的服務。

離子減薄儀參數(shù)

離子源：雙離子源，安裝角度90°、180°可選

離子束能量：0-10KeV

離子槍與樣品加工面夾角：0-180°；3°、6°或9°；0-360°

加工速率：≤300um/h，Si

可容樣品尺寸：≤25×12×5.5mm；≤25×25×20mm；Φ3mm

擋板材質(zhì)：鉬或鈦；---；---

真空泵：隔膜泵＋渦輪分子泵（無需冷卻水）

抽氣速率：大氣到工作狀態(tài)不高于3min

制冷：半導體制冷-25℃

工作氣體：氬、氦、氧、氙

保護功能：過流、真空雙保護

控制系統(tǒng)：基于開源操作系統(tǒng)自主研發(fā)，具有自主知識產(chǎn)權(quán)