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▍產品簡介

藝微勝SCP-12LD桌上型旋轉涂布機，是專為半導體、光電及精密制造領域設計的一款高性能設備，支持12英寸硅片及大尺寸基板的涂布、光刻膠處理與表面處理工藝。該設備采用高精度伺服電機驅動系統(tǒng)，配合PLC智能控制，能高效完成精密的涂布任務，適用于光刻、感光涂料涂布等高精度工藝要求。整機采用堅固的不銹鋼外殼與PTFE盆罩，保證設備穩(wěn)定運行且易于清潔，確保工作過程中的高效與安全。

設備提供了手動噴涂及精確的配方設置功能，配備了真空負壓檢測和保護系統(tǒng)，能夠有效預防飛片風險，確保生產的穩(wěn)定性與安全性。操作界面為7寸觸摸屏，簡單易用，適合實驗室與中高規(guī)模生產的需求。

▍技術特點

1.大尺寸基板支持

專為12英寸硅片和大尺寸基板設計，滿足大規(guī)模半導體和光電工藝的精密涂布需求。

2.高精度伺服電機驅動

支持20-5000轉/分鐘的轉速范圍，精度達±1rpm，確保涂布過程中的均勻性與穩(wěn)定性。

3.智能PLC控制系統(tǒng)

配備PLC系統(tǒng)與觸摸屏操作界面，支持50組配方設置，每組最多可設定20個操作步驟，簡化操作與參數(shù)管理。

4.安全與保護設計

配有真空負壓檢測、下限保護和間接防護設計，有效減少設備損壞和飛片風險，保障生產穩(wěn)定性。

5.易清潔和維護

使用不銹鋼與PTFE材料，表面不易吸附顆粒，便于日常清潔與維護，保證設備長期高效運行。

6.可調噴涂功能

手動噴涂裝置，靈活可調，滿足不同涂布要求，確保每次涂布精度與一致性。

▍技術參數(shù)

▍典型應用

廣泛應用于半導體、太陽能電池和光電器件領域，特別適合大尺寸硅片光刻膠涂布、感光涂料均勻涂布及精密化學處理。該設備提供高效、精準的涂布解決方案，優(yōu)化生產工藝、提升產品質量并減少材料浪費。針對高精度、高穩(wěn)定性及大尺寸基板處理需求，它是理想之選，為半導體制造及相關行業(yè)提供*技術支持，推動精密制造的創(chuàng)新發(fā)展。