日本shinkuu貴金屬薄膜鍍膜研究磁控濺射儀
日本shinkuu貴金屬薄膜鍍膜研究磁控濺射儀

• 專用裝置：專為掃描電子顯微鏡（SEM）觀察用貴金屬薄膜涂層設計，用于防止SEM樣品的充電效應，提高二次電子的產生效率。
• 低電壓放電：采用磁控靶電極進行低電壓放電，結合浮動式樣品臺，減少電子束對樣品的損傷。
• 操作簡便：只需按下按鈕即可自動進行涂層處理，操作簡單，任何人都可以輕松操作。
• 小型化設計：內置旋轉泵，體積小巧，不占用過多空間，適合放置在實驗室的角落。
• 產品套裝：包括裝置本體和一片靶材（用戶可指定類型）。
• 簡易裝置：由于是簡易裝置，不包含安裝和操作說明。

裝置規格

• 電源：AC100V（單相100V 10A），帶地線的三芯插頭。
• 裝置尺寸：寬200毫米、深350毫米、高345毫米（裝置重量14.6公斤）。
• 旋轉泵：10升/分鐘（內置）。
• 樣品室尺寸：內徑120毫米、高65毫米（硬質玻璃）。
• 樣品臺尺寸：直徑50毫米（浮動式）。
• 電極-樣品臺間距：35毫米（使用輔助樣品臺時為25毫米）。
• 靶材：直徑51毫米、厚0.1毫米，可選材料包括Pt、Pt-Pd、Au、Au-Pd、Ag（厚0.5毫米）。

用場景

• 材料科學：研究和開發新型薄膜材料，探索其在不同領域的應用潛力。
• 納米技術：制備納米尺度的薄膜和結構，用于制造高性能的納米器件。
• 電子顯微鏡：為SEM等電子顯微鏡分析制備導電涂層，提高樣品的導電性和成像質量。
• 光學領域：制備光學薄膜，用于光學元件的表面處理和功能化。
• 表面工程：對材料表面進行改性，提高其耐磨性、耐腐蝕性等表面性能。