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產品簡介
| 產地類別 | 國產 | 價格區間 | 面議 |
| 儀器種類 | 普通凝膠成像 | 應用領域 | 環保,化工,生物產業 |
原位電化學干涉散射成像-共聚焦拉曼關聯系統
高分辨、原位表征、特別的離子遷移觀測解決方案
干涉散射成像,是基于顯微成像技術拓展而來的,具有高分辨和高對比度的成像技術。其利用激光寬場照明,獲得樣品對激光的散射信號,再通過干涉方式對樣品表面進行成像。由于干涉信號對樣品表面的折射率變化異常敏感,因此能夠以較高的空間分辨率對電化學充放電過程中所引起的顆粒表面的細微變化進行成像,并以高對比度反映充放電時離子化合物的形成、變化和遷移過程并分析其電化學機理。
該系統還結合了共聚焦顯微拉曼成像技術,能夠在樣品同一位置原位實現干涉散射成像與共聚焦拉曼光譜的表征,從而綜合表征充放電過程中材料的結構、成分等性質的變化,以及離子遷移的過程。
原位電池電荷成像系統主要特點
• 特別的干涉散射成像模式,反映離子化合物的形成、遷移和分布。
• 可原位獲得樣品同一區域的干涉散射成像和拉曼光譜/mapping結果。
• 較高的空間分辨率(300nm 720nm波長)。
• 自動聚焦等自動化操作和數據采集功能,確保光路的穩定性,以及易用性。

原位電池電荷成像系統應用領域
• 電化學、電池材料
• 二維材料等微納米材料

Specifications
光譜范圍 | 300-1050nm |
拉曼光譜分辨率 | <1cm-1 (532nm激發) |
拉曼截止波數: | <100cm-1 (532nm激發) |
干涉散射成像空間分辨率 | 300nm |
樣品臺 | X=50mm * Y=50mm,Z=20mm 步進精度優于 0.05μm,重復精度2μm |
特色功能 | 自動聚焦、原位干涉散射-拉曼光譜關聯成像 |
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