光刻機又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統，光刻機，紫外曝光機等；
MIDAS為半導體設備供應商，多年來致力于掩模對準光刻機和勻膠機研發與生產，并且廣泛應用于半導體、微電子、生物器件和納米科技領域；該公司是目前將光刻機商品化的公司之一，擁有雄厚的技術研發力量和設備生產能力；并且其設備被眾多著名企業、研發中心、研究所和高校所采用；以優秀的技術、工藝和良好的服務，贏得了用戶的青睞。

MDA-20SA光刻機產地：韓國MIDAS公司，唯1能做到圖形化藍寶石襯底（PSS）光刻機，高性價比
型號：MDA-20SA

MDA-20SA光刻機

操作簡單，可編程控制器（PLC）操作，PC控制，圖像采集和數據記錄，100多個程序配方，電動操縱桿控制，電動變焦顯微鏡和工作臺，顯微鏡位置控制系統

操縱桿控制，半自動

掩模版尺寸規格，用戶訂制

基板尺寸規格（大面積），用戶訂制

均勻光束規格，用戶訂制

紫外線光源：紫外線燈，5 kW

光束波長350~450 nm

光束均勻度<±7%

365 nm強度5 kW: ~45 mW/?

對準方法：操縱手柄控制半自動

對準精度1 um

工藝模式：軟、硬、真空接觸和接近

分辨率：透鏡 >3 um，反射鏡：>9 um