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杭州玉之泉精密儀器有限公司專注光電科技前沿，致力于為客戶提供高精度微納加工設備及定制化解決方案，以技術推動產(chǎn)業(yè)升級，助力客戶在制造領域實現(xiàn)更大突破。玉之泉主營業(yè)務為飛秒激光直寫光刻系統(tǒng)的研發(fā)銷售以及相關微納產(chǎn)品的加工服務，為客戶提供相關的微納加工解決方案，市場覆蓋光通信領域、特種光纖傳感、平面顯示、高端防偽、超材料制備等多項領域。
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無掩膜光刻機產(chǎn)品參數(shù)
| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 應用領域 | 綜合 |
無掩膜光刻機詳細信息
數(shù)字投影無掩膜光刻系統(tǒng)_UVD：緊湊型桌面無掩膜光刻系統(tǒng)，采用數(shù)字微鏡技術進行高速無掩膜圖形生成，可實現(xiàn)最高0.5μm的最小特征尺寸。配備高精度實時對焦與視覺對位套刻技術，主要應用于制作MEMS、光子器件、量子計算芯片及傳感器等領域快速原型開發(fā)。
| 無掩膜光刻機_UVD性能參數(shù) | ||||
| 寫頭 | 50× | 20× | 10× | 5× |
| 最小特征尺寸（μm） | 0.5 | 0.8 | 1 | 2.5 |
| 粗糙度（3σ，nm) | 70 | 80 | 100 | 200 |
| CD均勻性（3σ，nm) | 80 | 130 | 180 | 250 |
| 套刻精度100×100mm²（nm) | 500 | 500 | 800 | 1000 |
| 寫入速度mm²/min | 13 | 50 | 100 | 180 |
| 系統(tǒng)特點 | ||||
| 光源 | 405nm或385nm或365nm | |||
| 基板尺寸 | 最大8寸 | |||
| 基板厚度 | 0.1mm~8mm | |||
| 最大曝光面積 | 190×190mm² | |||
| 溫度穩(wěn)定性 | ±0.1° | |||
| 灰度等級 | 1024 | |||
| 擴展性 | 支持擴展雙波長光源 | |||
| 特色功能 | ||||
| 腳本化刻寫模式 | 提供腳本化編程接口，支持用戶自定義加工結構 | |||
| 在線繪制加工模式 | 支持實時在線繪圖，在樣品的實時畫面上繪制任意圖形直接加工 | |||
| 刻寫與切片軟件 | 支持JPG、TIFF、GDS、DXF等多種格式 | |||
| 實時自動對焦 | 光學對焦 | |||
| 自動對焦范圍 | 70μm | |||
| 系統(tǒng)配件 | ||||
| 物鏡 | 5×，10×，20×，50×，100× | |||
| 系統(tǒng)尺寸 | ||||
| 長寬高 | 850mm×940mm×780mm | |||
| 850mm×940mm×1470mm | ||||
| 重量 | 250KG（主機重量） | |||
| 安裝條件 | ||||
| 電氣條件 | 230VAC±5%，50/60Hz,10A | |||
| 環(huán)境溫度 | 溫度：21±1攝氏度，濕度：50%~70%，無冷凝 | |||
| 壓縮空氣 | 6-9bar,±0.5bar | |||
| 環(huán)境照明 | 黃光 | |||
| 潔凈等級 | 萬級潔凈間 | |||
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移動站：無掩膜光刻機
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