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日立離子研磨裝置IM4000 II產品參數
| 應用領域 | 綜合 |
日立離子研磨裝置IM4000 II詳細信息
日立離子研磨裝置IM4000 II 具有斷面加工和平面研磨功能的混合儀器！
日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）的混合模式帶有兩種研磨配置：
斷面加工：將樣品斷面研磨光滑，便于表面以下結構高分辨成像。
平面研磨：將樣品表面均勻研磨5平方毫米，從不同角度有選擇地研磨，以便突出樣品的表面特性。
日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）的高通量能提高加工效率：
與之前的E-3500型相比，采用新型離子槍設計，減少了橫截面研磨時間。
（參考加工速率：硅元素為300微米/小時 — 加工時間減少了66%。
日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）的可拆卸樣品臺裝置：
為便于樣品設置和定義研磨邊緣，可將樣品臺裝置拆卸。
日立離子研磨裝置IM4000 II特點
混合模式：兩種研磨配置
斷面加工：將樣品斷面研磨光滑，便于表面高分辨觀察
平面研磨：不同角度有選擇地，大面積，均勻地研磨5 mm的平面，以突顯樣品的表面特性
高效：提高加工效率
與之前的E-3500型相比，采用新型離子槍設計，減少了橫截面研磨時間
(參考加工速度：硅材質為300 μm/h - 加工時間減少了66%)
可拆卸式樣品臺：
為便于樣品設置和邊緣研磨，樣品臺設計為可拆卸型
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內容聲明：
您訪問的日立離子研磨裝置IM4000 II產品信息，由日立分析儀器（上海）有限公司自行發布提供，產品價格為面議，如您想了解更多關于日立離子研磨裝置IM4000 II型號、參數、用途等信息，歡迎咨詢。
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