中村供應：FUJIFILM/富士膠片i-Line光刻膠

富士膠片 OiR 620 是面向0.30μm 級關鍵層量產的gao端 i?Line（365nm）正性光刻膠，主打超高分辨率、寬工藝窗口、高產能適配，是成熟制程（0.35μm–0.30μm）的biao桿型號。

中村供應：FUJIFILM/富士膠片i-Line光刻膠

一、核心技術參數

• 適用波長：i?Line（365nm）

• 分辨率：常規照明 <0.28μm；環形照明可縮至 0.25μm

• 曝光靈敏度：220 mJ/cm2

• 焦深（DOF）：

• 0.35μm L/S：>1.2μm（常規照明）

• 0.30μm L/S：>1.0μm（常規照明）

• 顯影適配：標準 0.262N TMAH 顯影液（含 / 不含表面活性劑）

• 體系：酚醛樹脂 + DNQ 感光劑，EL/EEP 環保溶劑

• 定位：非反射襯底專用、關鍵層量產型

二、核心特點與優勢

1. 超高分辨率，滿足 0.30μm 量產

• 常規照明即可實現 <0.28μm 線寬，環形照明可至 0.25μm，覆蓋 0.35μm–0.30μm 關鍵層。

• 基于zhuan利酚醛樹脂與 PAC 技術，對比度高、側壁陡直、CD 均勻性優異。

2. 寬工藝窗口，良率與產能雙優

• 焦深（DOF）表現突出，對曝光劑量、焦距、顯影時間寬容度大，量產良率穩定。

• 靈敏度適中（220 mJ/cm2），平衡分辨率與產能，適配高產量 i?Line 步進機。

3. 環保溶劑體系，安全合規

• 采用EL/EEP 低毒溶劑，替代傳統高毒溶劑，符合環保與職業健康要求，降低工廠安全風險。

4. 工藝兼容性強，易集成

• wan美適配標準 0.262N TMAH 顯影液與成熟 i?Line 光刻流程，無需設備改造。

• 與有機底部抗反射涂層（BARC）兼容，抑制駐波效應，提升圖案精度。

5. 非反射襯底專用，性能ji致

• 專為氧化層、氮化層、多晶硅等非反射表面優化，避免反射干擾，圖案保真度高。

• 黏附性、抗刻蝕性、耐熱性均衡，適配干法 / 濕法刻蝕與離子注入工藝。

三、典型應用場景

• 邏輯 / 模擬 IC：0.35μm–0.30μm 柵極、接觸孔、金屬互連

• 電源管理 IC（PMIC）：高壓 / 功率器件關鍵層光刻

• MCU / 傳感器：汽車電子、工業控制、消費電子芯片

• 顯示驅動 IC：LCD/OLED 驅動芯片

• 分立器件：MOSFET、IGBT、二極管等功率器件

四、選型與使用要點

• ? 適配：0.35μm–0.30μm 關鍵層、非反射襯底、高良率量產、i?Line 步進機

• ?? 注意：不適合強反射襯底（如鋁、銅金屬層），此類場景推薦 OiR 674 系列

• ? 不適用：>0.35μm 非關鍵層（性價比低）、<0.25μm xian進制程（需 KrF/ArF）