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內容聲明：
您訪問的日本納米計量技術 手動旋轉涂布機設備產品信息，由深圳秋山工業設備有限公司自行發布提供，產品價格為面議，如您想了解更多關于日本納米計量技術 手動旋轉涂布機設備型號、參數、用途等信息，歡迎咨詢。
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產品簡介
日本納米計量技術 手動旋轉涂布機設備產品參數
| 產地類別 | 進口 |
日本納米計量技術 手動旋轉涂布機設備詳細信息
日本納米計量技術 手動旋轉涂布機設備 日本納米計量技術 手動旋轉涂布機設備
一、產品概述
SC300 是 Nanometric Technology Inc. 專為半導體元件器件光刻基礎研究領域開發的手動旋轉涂布機，將兼容 φ5 英寸晶圓的高精度光刻膠涂覆功能與緊湊易用的設計融為一體，是實驗室級半導體工藝研究的高性價比選擇。
二、核心特征
廣泛樣品適配：兼容 φ5 英寸晶圓，同時支持定制化探頭，可靈活應對異形樣品，滿足多樣化涂覆需求。
兩檔速度控制：配備 SPEED1/SPEED2 兩檔轉速調節，搭配 TIME1/TIME2 兩段時間設定，可精準控制光刻膠成膜工藝。
緊湊低成本設計：整機采用緊湊型布局，兼顧高精度與經濟性，適合科研實驗室小批量樣品制備。
耐藥品性與易清潔：全不銹鋼外殼，耐化學品腐蝕，便于清潔維護，適配光刻膠等有機溶劑環境。
高效排氣設計：配備全周平均排氣管道，可均勻排出有機溶劑揮發氣體，保障實驗環境安全。
便捷操作面板：集成轉速計、時間設定、真空吸附控制、啟動 / 停止等功能模塊，操作直觀清晰。
三、應用場景
廣泛應用于高校、科研院所及半導體企業的光刻研發實驗室，可用于：
φ5 英寸及以下晶圓的光刻膠均勻涂覆
異形樣品的定制化薄膜制備
半導體器件光刻工藝的基礎研究與小批量試制
新型光刻材料的成膜工藝探索
四、產品細節與工藝
整機采用全不銹鋼外殼，堅固耐用且耐化學品腐蝕；核心旋轉機構采用精密驅動設計，保障涂覆均勻性；操作面板集成轉速顯示、兩段式速度 / 時間控制、真空吸附狀態指示等功能，操作便捷高效；真空吸附系統可穩定固定樣品，配合全周排氣設計，確保實驗過程安全穩定。
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