產(chǎn)品名稱：Onto高度測量系統(tǒng)IVS 380

產(chǎn)品型號：IVS 380

產(chǎn)品介紹

IVS 380 系統(tǒng)可為優(yōu)良封裝、電源、化合物半導體和 MEMS 提供套刻、CD 和 z 高度計量，提供更高的性能和靈活性，無需更改硬件即可適應不同尺寸和厚度的基板。基于 IVS 系列在 CMOS、MEMS 和化合物半導體應用領域 40 年的經(jīng)驗，具備*的多功能性，能夠應對各種基板和層的套刻、CD 和 z 軸高度測量。它可以測量 xy 平面上的關鍵尺寸以及 RDL 金屬線、柱狀結構和凸點等特征的垂直 z 軸高度。其光學系統(tǒng)能夠聚焦于光刻膠等透明材料以及電鍍銅等粗糙表面。

性能特點

l IVS 380 是一款專為大批量生產(chǎn)設計的光學套刻、CD 和 z 軸高度測量系統(tǒng)，兼容 SMIF（200mm 基板）或 FOUP（300mm 基板）進樣口。

l 它可處理各種優(yōu)良封裝基板，包括硅、玻璃和 CCL，并支持 200mm 和 300mm 兩種尺寸。

技術參數(shù)

產(chǎn)地：美國

測量內(nèi)容：光學套刻、CD 和 z 軸

兼容進樣口：SMIF或 FOUP

基板尺寸：200mm 和 300mm

基板材質(zhì)：硅、玻璃和 CCL

基板類型：封裝

可測量表面：光刻膠等透明材料以及電鍍銅等

表面光滑度：粗糙

市場：CMOS、MEMS 和化合物半導體

特征測量：xy 平面、RDL 金屬線、柱狀、凸點

產(chǎn)品應用

關鍵尺寸

產(chǎn)品覆層

特殊用途