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日本進口HORIBA堀場橢圓偏振光譜儀產品參數
| 應用領域 | 能源 |
日本進口HORIBA堀場橢圓偏振光譜儀詳細信息
日本進口HORIBA堀場橢圓偏振光譜儀
?日本HORIBA（堀場）橢圓偏振光譜儀?（Ellipsometer）是一類高精度、非接觸、非破壞性的光學薄膜表征設備，廣泛應用于半導體、光伏、光學鍍膜、平板顯示、生物材料及優良功能材料等領域。該系列儀器憑借其靈敏度、寬光譜覆蓋和自動化性能，成為科研與工業質量控制中的核心分析工具。
1. ?UVISEL 2：研究級全自動橢偏儀?
?光譜范圍?：?190–2100 nm?（FUV 到 NIR），支持全波段材料分析。
?最小光斑尺寸?：?35 μm?（消色差設計），適用于微區與圖案化樣品測量。
?核心技術?：采用?相位調制技術?（PEM），無機械旋轉部件，信噪比高、穩定性強。
?自動化功能?：
集成?實時彩色成像系統?，可精準定位測量區域。
自動選擇8種微光斑尺寸，適配不同樣品特征。
自動變角測角儀（35°–90°），支持多角度光譜橢偏分析。
XYZ自動樣品臺，支持大面積 Mapping 與重復性測量。
?軟件平臺?：搭載 ?DeltaPsi2? 軟件，提供*的建模、擬合與數據庫支持，適用于復雜多層膜結構分析。
2. ?UVISEL Plus：高靈敏度模塊化橢偏儀?
?光譜范圍?：?190–2100 nm?，覆蓋紫外至近紅外。
?測量速度?：搭載 ?FastAcq™ 快速采集技術?，可在3分鐘內完成全光譜高分辨掃描。
?高靈敏度設計?：基于?雙調制技術?（相位+液晶），可檢測?小于1 nm 的超薄膜層?或界面，甚至表征厚達50 μm的多層結構。
?應用靈活性?：
支持?原位（in-situ）集成?于工藝腔體或卷對卷設備，實現實時過程監控。
可選微光斑、自動Mapping、液體池等附件，滿足科研與產線多樣化需求。
?無損測量?：對透明樣品背面無需刮除，即可準確分析多層結構與背反射干擾。
3. ?Auto SE：一鍵式全自動薄膜測量儀?
?定位?：面向?質量控制與產線快速檢測?，強調操作簡便與高重復性。
?光譜范圍?：?450–1000 nm?，適用于常見薄膜材料的快速表征。
?核心特點?：
?一鍵式全自動操作?：幾秒內完成測量與分析，輸出完整報告（厚度、n/k值、粗糙度等）。
?CCD 探測器 + 液晶調制技術?，無移動部件，長期穩定性優異。
配備 ?MyAutoView 光斑可視系統?，可清晰觀察樣品表面并精確定位測量點。
支持自動MAPPING，評估鍍膜均勻性。
?智能診斷?：內置操作向導，可自動檢測故障并提示維護，降低使用門檻。
4. ?Smart SE：智能型多功能橢偏儀?
?光譜范圍?：?450–1000 nm?，支持多角度與多光斑切換。
?特點?：模塊化設計，支持在線/離線切換，適用于教學、研發與中小型企業應用。
技術優勢總結
? ?非破壞性、無需真空環境?：適用于各類固體、液體界面分析。
? ?高精度與高靈敏度?：可測?單原子層級別薄膜?，精度達±0.002 n/k值。
? ?寬材料適用性?：涵蓋半導體、氧化物、聚合物、有機物、金屬及多層復合結構。
? ?全自動化與智能化?：從樣品加載、測量到數據分析全程自動，適合非專家用戶使用。
? ?支持原位與在線集成?：滿足優良制造中實時工藝監控需求。
日本進口HORIBA堀場橢圓偏振光譜儀
光譜范圍從FUV到NIR:190-2100nm
UVISELPlus橢圓偏振光譜儀為優良薄膜、表面和界面表征提供了模塊化和性能的優化組合。
UVISELPlus作為一款高準確性、高靈敏度、高穩定性的經典橢偏機型，它采用了PEM相位調制技術，與機械旋轉部件技術相比，能提供更好的穩定性和信噪比。光譜范圍從190nm到2100nm。
UVISELPlus集成了全新的FastAcqTM快速采集技術，可在3分鐘以內實現高分辨的樣品測試(190-2100nm)，校準僅需幾分鐘。基于全新的電子設備，數據處理和高速單色儀，FastAcq技術能夠為用戶提供高分辨及快速的數據采集。FastAcq專門為薄膜表征設計，雙調制技術可以確保您獲得優異的測試結果。
相位調制技術的特點為高頻調制50kHz，信號采集過程無移動部件:
測試全范圍的橢偏角，甲(0-90)，A(0-360)
從FUV到NIR具有優良的信噪比
數據采集速度快，高達50毫秒/點，是動力學研究和在線測量的理想選擇
相比于采用旋轉元件調制的傳統橢圓偏振光譜儀，UVISELPlus的相位調制模式在表征薄膜方面具有更高的靈敏度和精度。它不僅可以探測到其他橢偏儀無法觀測到的極薄膜或界面，還可以表征50um的厚膜。在測試有背反射的透明樣品時，測試簡單、準確，無需刮花背面。
UViSEL Plus還設計有多種附件及可選功能，便于客戶根據應用需求及預算選擇合適的配置。比如，微光斑用于圖案樣品、自動變角器、自動樣品臺等。
UVISELPlus采用模塊化設計，可靈活擴展。即可用于離線臺式測量，也可以耦合于鍍膜設備做在線監控。
UVISEL Plus可根據習慣選擇操作界面，一個是 DeltaPsi2 具有建模和擬合處理功能;另一個是 Auto-Soft 用戶導向的全自動樣品測試界面，工作流程百觀，易于非專業人士操作。
UVISELPlus搭載FastAcq技術是材料研究和加工、平板顯示、微電子和光伏領域中優選通用光譜型橢偏儀。
UVISELPlus是材料科學研究的理想工具。
產品優勢
·高精度和高靈敏度
·模塊化設計·寬光譜范圍:190-2100 nm
·集數據測量、建模和自動化操作為一體的軟件包
獲得的信息
·膜層厚度，從1A到50um
·表面和界面粗糙度
·光學常數(n,k)，適用于各向同/異性和漸變層光學特性如:吸收系數a，光學帶隙Eg
·材料性能:合金成分、孔隙率、結晶度及形貌等
·穆勒矩陣
·退偏
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內容聲明：
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