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內容聲明：
您訪問的ULVAC 高真空低溫泵 半導體工藝用冷凝泵產品信息，由深圳市秋山貿易有限公司自行發布提供，產品價格為面議，如您想了解更多關于ULVAC 高真空低溫泵 半導體工藝用冷凝泵型號、參數、用途等信息，歡迎咨詢。
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產品簡介
ULVAC 高真空低溫泵 半導體工藝用冷凝泵產品參數
| 應用領域 | 綜合 |
ULVAC 高真空低溫泵 半導體工藝用冷凝泵詳細信息
ULVAC 高真空低溫泵 半導體工藝用冷凝泵ULVAC 高真空低溫泵 半導體工藝用冷凝泵ULVAC 愛發科作為全球真空設備領域的品牌，旗下 CRYO-U10HSP 系列低溫泵，憑借高效冷凝抽氣技術、穩定可靠的性能表現，成為半導體制造、真空鍍膜、航天模擬等領域高真空環境構建的核心設備。
設備采用低溫冷凝原理，通過制冷機將泵內冷頭降至超低溫，使氣體分子在冷頭表面冷凝，從而實現高效抽氣。對水蒸氣的抽速高達 6900 升 / 秒，對氫氣抽速 3600 升 / 秒、氮氣 2400 升 / 秒、氬氣 2000 升 / 秒，尤其適配半導體工藝中水汽、氫氣含量較高的工況，能快速建立并維持高真空環境。極限真空度可達 10??Pa（10??Torr），滿足超潔凈、高真空工藝要求，如半導體晶圓加工、薄膜沉積、離子注入等工序。
制冷系統搭載 C15T 壓縮機單元，冷卻下降時間僅需 120 分鐘（50Hz）/110 分鐘（60Hz），快速啟動投入使用；設備質量僅 36kg，結構緊湊，進氣口采用 UVG-250 法蘭標準，適配多種真空腔體接口，安裝便捷。設備配備氬氣、氫氣大容量排氣功能，氬氣排氣容量達 2.0×10?Pa?L，氫氣排氣容量 1.2×10?Pa?L，可長時間連續運行，減少再生維護頻次，提升生產效率。
設備設計充分考慮工業應用場景，采用密封式結構，運行穩定可靠，噪音低，對工藝環境無干擾；可選配多種附件，適配不同工藝需求，如自動再生控制、壓力監測系統等，實現智能化運行管理。憑借 ULVAC 在真空技術領域的深厚積累，CRYO-U10HSP 低溫泵以高效抽氣、極限真空高、維護便捷的特點，成為高真空工藝的優選設備，為半導體、光學、科研等領域提供穩定可靠的真空解決方案。
核心參數概要
表格
| 參數項 | 規格說明 |
|---|---|
| 品牌 | ULVAC（アルバック，愛發科，日本） |
| 型號 | CRYO-U10HSP（同系列：CRYO-U10H） |
| 抽氣速度（20℃） | 氮氣：2400L/s；氫氣：3600L/s；氬氣：2000L/s；水蒸氣：6900L/s |
| 極限真空度 | 10??Pa（10??Torr） |
| 最大流量（氬氣） | 1.30×103Pa·L/s（9.8Torr·L/s） |
| 排氣容量 | 氬氣：2.0×10?Pa?L；氫氣：1.2×10?Pa?L |
| 冷卻下降時間 | 120min（50Hz）/110min（60Hz） |
| 進氣口法蘭 | UVG-250，10" ANSI 標準 |
| 壓縮機單元 | C15T |
| 設備重量 | 36.0kg |
| 適用場景 | 半導體工藝、真空鍍膜、科研實驗、航天模擬等高真空環境構建 |
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