德國SUSS LABSPIN HP8TT臺式光刻熱板

公司簡介：

SUSS MicroTec SE 是 1949 年創立、總部位于德國加興的上市精密設備企業，擁有 70 余年微加工設備研發制造經驗。產品分為先進封裝、光掩模處理兩大體系，覆蓋晶圓鍵合、曝光、涂顯、掩模清洗全流程工藝設備。設備廣泛用于算力芯片封裝、功率器件、傳感器、光電子元器件量產，同時服務高校與科研院所微納加工研發。

產品介紹：

一SUSS  LABSPIN HP8TT臺式光刻熱板

基板適配規格：

圓形晶圓：2~200mm（8 英寸）標準硅片、化合物襯底；

方形基板：最大 6×6 英寸玻璃、陶瓷、光學基片；

標配三點升降頂針結構，可夾持薄片、碎片、翹曲樣品。

技術參數：

基板兼容性最大200mm（8英寸）圓形晶圓，兼容6英寸方形基板

溫控范圍室溫至 250℃

溫控精度例如 ±0.5℃ @ 120℃

工藝編程可存儲多達 200個配方，每個配方最多 40個步驟

核心設計三點式升降頂針（方便取放晶圓）、獨立觸控屏、可選氮氣吹掃模塊

配套適配關系:

設備外觀、占地尺寸、控制系統邏輯與 LabSpin 6TT/8TT 勻膠機統一，二者可組成完整臺式光刻工藝單元：旋涂（LabSpin）→前烘（HP8TT）→曝光→顯影（LabSpin）→硬烘（HP8TT），無需額外改造工作臺。

應用場景：

高校微納實驗室：光刻教學、MEMS 傳感器、微流控芯片光刻膠軟烘 / 硬烘；

半導體企業研發中心：功率器件、碳化硅、扇出封裝光刻工藝驗證；

光電子研發：紅外芯片、光學薄膜、Mini LED 涂層烘烤試驗；

新材料實驗：各類聚合物、絕緣薄膜熱處理固化測試。

型號列表：

SUSS  LABSPIN 8

SUSS  LABSPIN 8TT

SUSS  LABSPIN 6

SUSS  LABSPIN HP8

SUSS  LABSPIN HP8TT

SUSS  LABSPIN CP8

SUSS  LABSPIN VP8

SUSS  LABSPIN RCD8

SUSS  LABSPIN MCS8

SUSS  LABSPIN ECD8

SUSS  DSM8 Gen2

SUSS  DSM200 Gen2

SUSS  MJB4

SUSS  NIL-SFT8

SUSS  NIL-SFT12

SUSS  MABA 6/8 Gen4

SUSS  MA12 Gen3

SUSS  MA100 / 150e Gen2

SUSS  MA200 Gen3

SUSS  MA300 Gen3

SUSS  DSC300 Gen3

SUSS  XB8

德國SUSS LABSPIN HP8TT臺式光刻熱板