AL-MLDMHS20型 微波制備大面積金剛石膜散熱片反應儀

儀器簡介：

AL-MLDMHS20型 微波制備大面積金剛石膜散熱片反應儀是根據我公司的控制技術并按照高校廣大師生需求設計的產品，此AL-MLDMHS20型 微波制備大面積金剛石膜散熱片反應儀主要特點是采用915MHz微波頻率，2000W高功率固態微波源，微波穩定輸出。可以對200mm直徑的襯底沉積金剛石薄膜。

AL-MLDMHS20型 微波制備大面積金剛石膜散熱片反應儀具有控溫無誤、7寸顯示屏顯示、觸摸控制、操作簡單方便，可以存儲數據。AL-MLDMHS20型 微波制備大面積金剛石膜散熱片反應儀具有數字處理功能，實時在線顯示和記錄反應數據和曲線圖像，程序控制反應條件，可將實驗分為多個工作階段，可隨時在線修改不適宜反應條件參數，具有保存和查詢實驗記錄的功能。

AL-MLDMHS20型 微波制備大面積金剛石膜散熱片反應儀作用原理是在化學氣相沉積（CVD）基礎上利用微波輻射，產生等離子體。在微波等離子化學氣相沉積（MPCVD）的技術下，碳原子通常以薄膜形式沉積在襯底表面。其中高溫襯底為到達表面的活性基團提供能量，使其能遷移并找到合適的位置成鍵。

應用領域：

AL-MLDMHS20型 微波制備大面積金剛石膜散熱片反應儀適用于制備大面積金剛石膜、大尺寸寶石級單晶鉆石、高取向度金剛石晶體、納米結晶金剛石、石墨烯材料、Al₂O₃、SiOx、TiN、TiCN、金剛石涂層等。在金屬、玻璃、聚合物以及其他材料表面沉積有機或無機薄膜來保護其他表面不被腐蝕或改變其表面硬度、增強耐磨性能等。

AL-MLDMHS20型 微波制備大面積金剛石膜散熱片反應儀能催化完成微波等離子體相關應用，包括但不限于以下方面：

1、半導體加工：在半導體的蝕刻、濺射、氣相沉積、氧化硅片等生產工藝中使用微波等離子體技術。

2、表面處理：應用于金屬、合金、非金屬的表面處理，如金屬表面的清洗和強化。

技術參數：

1、微波頻率：915MHz；

*2、微波功率:0-2000W，功率自由設置，微波功率隨溫度自動變頻控制，非脈沖連續加熱；

*3、微波功率上限隨意設置，并且具有設置功率下限功能，保證一直有功率輸出；

*4、微波控溫方式3種，分別是以設置的上限功率加熱到設定溫度然后保溫模式、初始溫度經過設置的時間到達設定溫度從而達到緩慢升溫效果的速率升溫模式、設置每分鐘升溫溫度度數的升溫斜率模式；

5、2位高精度非接觸式紅外溫度傳感器，實時監測反應物溫度以及圓形襯底臺溫度，準確控制反應進程；

*6、紅外測溫和控溫范圍:0～1200℃；具有速率升溫功能；

7、紅外測溫精度:≤±1.5℃ 控溫精度:≤±2℃；

*8、微波控溫采用無誤AI人工智慧邏輯算法 ，實現復雜長滯后對象無誤控制，保證控溫無誤，杜絕出現超溫、低溫等現象；

*9、襯底臺中內置輔助電阻加熱器，功率0-4000W，功率自由設置，功率隨溫度自動控制；

*10、襯底臺中內置接觸式K型熱電偶溫度傳感器，實時監測襯底臺的溫度，并且進行反饋控制輔助電阻加熱器的功率；

11、K型熱電偶測溫和控溫范圍:0～1200℃；

12、K型熱電偶測溫精度:≤±2℃ 控溫精度:≤±2℃；

*13、壓力控制范圍：0~50KPa，壓力傳感器量程：0～100KPa，耐壓上限1MPa，控壓精度：0.2kPa；

14、20升316L奧氏體不銹鋼腔體，表面耐腐蝕、耐高溫性強；

15、具備冷卻水管路：用于冷卻反應腔體、微波源等發熱部件；

16、蓋子上具備觀測的觀察窗口；

*17、微波系統組成：微波環行器，水負載以及連接波導組成。保護固態微波源，可連續不間斷持續工作。系統駐波系數：VSWR≤1.5；

18、7英寸高亮度TFT液晶顯示觸摸屏直接操作，Cortex-A8 CPU核心，配備USB接口；實時顯示反應溫度和功率數據，并顯示曲線，可以保存和查詢實驗記錄；

*19、具備：4路反應氣體進入管路，再混合成1路送入腔體內；

20、具備：真空管路用于抽真空；

21、具備：尾氣處理管路用于安全排放反應產生的危險或有害氣體；

22、可以進行氣氛、真空以及微正壓環境下反應實驗；

23、微波泄漏符合國家標準。

*表示我公司優勢技術。