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Phenom Pharos G2 是飛納推出的臺式場發射掃描電鏡，可用于高分子薄膜微觀缺陷觀察，幫助分析孔洞、顆粒、斷面和表面結構。

Phenom Pharos G2 采用肖特基熱場發射電子槍，電子光學放大倍數可達 2,000,000 X，分辨率優于 1.5 nm，適合對高分辨形貌、精細結構和微納尺度特征有要求的研發與檢測場景。

該產品具備臺式化設計、低/中/高三種真空模式、背散射探測器、二次電子探測器，并可根據需求選配能譜探測器。具體配置和價格根據樣品類型、成像需求及功能配置確定，可通過平臺詢價/留言入口獲取選型建議，并預約試樣。