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產品簡介
在半導體制造、光學涂層、材料科學等領域,薄膜制備和光刻膠涂覆工藝對涂層的均勻性、厚度一致性有著要求。慧諾16E旋涂儀勻膠機采用觸摸屏控制,基于離心力工作原理,轉速范圍100~10000rpm,加速度100~10000rpm/s可調,支持多段編程。電源采用電壓AC90-250V,適應不同國家和地區的供電環境。吸片采用電磁閥控制氣路,一個氣泵可同時帶多臺勻膠機工作,是實驗室涂覆薄膜、涂膠液的可靠設備。
慧諾16E勻膠機基于離心力工作原理,將膠液滴在旋轉的基片上,通過高速旋轉使膠液在基片表面均勻分布,形成薄膜或涂層。儀器采用可靠的電機和驅動器,吸片通過電磁閥控制氣路,一個氣泵可同時帶動多臺勻膠機工作,適合流水線工藝。
該設備適用于光刻膠涂布、涂硼等工藝過程,也可用于涂覆聚合物涂層、薄膜制備等多種應用場景。觸摸屏界面操作簡便,勻膠效率高,使用方便。
觸摸屏控制,操作直觀
采用觸摸顯示屏,人機交互友好,參數設置便捷。支持1~5段可編程控制,最多可存儲12組程序,滿足不同工藝需求。
電壓,適用范圍廣
電源電壓為AC90-250V,50-60Hz單相,通用,無需額外配置變壓器,適合出口設備及跨國實驗室使用。電源功率150W。
寬轉速范圍,加速度可調
轉速范圍100~10000rpm,加速度范圍100~10000rpm/s(空載),均可無級調節。每段時間最長可達3000秒,分辨率0.1秒,確保涂覆過程的精準控制。轉速分辨率1rpm。
電磁閥控制氣路,適配流水線
吸片采用電磁閥控制氣路,一個真空泵可同時帶多個勻膠機工作,提高生產效率。真空輸入要求0.06~0.09MPa,真空流量最小15升/分鐘以上。
電機轉矩大,運轉平穩
采用高性能電機,轉矩優于同類產品,運轉平穩可靠,電器線路設計可靠,確保長時間穩定運行。
涂覆均勻性優異
通過離心力作用,膠液從中心向外邊界均勻擴散,實現高質量的薄膜或涂層。旋轉速度、時間、膠液粘度等參數均可調節,滿足不同厚度和均勻性要求。
真空吸附,基片固定牢固
配備真空吸附系統,確保基片在高速旋轉過程中牢固固定在托盤上,避免偏移或脫落。裝片直徑可選擇10~100mm,支持兩種規格同時適配。
慧諾16E勻膠機電源電壓為AC90-250V,50-60Hz單相,電壓適用,電源功率150W。裝片直徑可在10至100毫米范圍內選擇,支持兩種規格同時適配。
程序控制方面,支持1至5段可編程編輯頁面,最多可存儲12組程序。每段運行時間最長3000秒,分辨率0.1秒。轉速范圍為100至10000轉/分鐘,加速度范圍為100至10000轉/分鐘/秒(空載),轉速分辨率1轉/分鐘。
外形尺寸為250×300×230毫米(不含鍋的高度),整機重量約11公斤。真空泵為選配件,真空輸入要求0.06至0.09兆帕,真空流量最小15升/分鐘以上。真空接口自帶6毫米管1米。
主機×1、說明書×1、合格證×1、保修卡×1
勻膠機的工作原理是通過將膠液滴在旋轉的基片上,然后通過旋轉運動使膠液在基片表面均勻分布,形成薄膜或涂層。離心力會將膠液從中心向外邊界擴散,最終形成均勻的涂層。勻膠機的旋轉速度、加速度、時間以及膠液的粘度等參數會影響薄膜或涂層的厚度和均勻性。
觸摸屏操作:界面直觀,參數設置快捷
電壓:AC90-250V,通用
寬調速范圍:轉速100~10000rpm,加速度100~10000rpm/s
工藝可控性強:多段編程,時間、轉速、加速度均可調
電機性能優異:轉矩大,運轉平穩,優于同類產品
適合流水線作業:電磁閥控制氣路,一泵帶多機
應用廣泛:適用于光刻膠、聚合物涂層、薄膜制備等
真空吸附穩定:基片固定牢固,確保涂覆均勻性
半導體制造:光刻膠涂布工藝
光學涂層:光學薄膜制備
材料科學:薄膜材料研發與制備
MEMS微機電系統:微結構涂覆
科研院所:實驗室薄膜工藝研究
涂硼工藝:核探測器件制備
真空泵為選配件,用戶可根據需要另行購買。真空輸入要求0.06~0.09MPa,真空流量最小15升/分鐘以上。儀器自帶6mm管1米,方便連接。
南北潮商城是慧諾智能勻膠機產品的總代理,所有在售16E勻膠機均為原廠,享受廠家級技術支持與售后服務。
選擇南北潮,您將獲得保障、總代理直供帶來的價格與交期優勢,以及專業的選型建議,幫助您匹配適合的配置與選配件。
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慧諾16E旋涂儀勻膠機憑借觸摸屏控制、電壓AC90-250V、100~10000rpm寬轉速范圍、100~10000rpm/s可調加速度、多段可編程、電磁閥氣路控制等優勢,成為實驗室旋涂涂膜的理想設備。無論您是進行半導體光刻膠涂布、光學薄膜制備,還是材料科學研究,這款勻膠機都能提供高效、穩定、均勻的涂覆體驗。
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