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日本CKD是日本CKD株式會社投資的氣動公司，主要制造氣源處理三大件、氣缸、電磁閥等自動化產品。
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日本進口CKD喜開理NVP/NAP系列氣控隔膜閥產品參數
| 應用領域 | 電子/電池,汽車及零部件,電氣,半導體,機械設備 |
日本進口CKD喜開理NVP/NAP系列氣控隔膜閥詳細信息
日本進口CKD喜開理NVP/NAP系列氣控隔膜閥
日本進口CKD喜開理NVP/NAP系列氣控隔膜閥
一、制程高純氣體閥（Dry 制程：CVD/PVD/ALD/ 離子注入，特種腐蝕性氣體 SiH?、NF?、WF?）
1.GTR 精密氣體調壓閥（高純特氣面板標配）
型號 GTR2000/GTR4000：316L-EP 不銹鋼內拋光，Ra≤0.25μm；調壓 0~0.5MPa，漏率≤1×10??Pa?m3/s；場景：機臺特氣柜 GC、CVD 源瓶穩壓、ALD 前驅體供氣穩壓。
2.NVP/NAP 氣控隔膜閥（高純氣體切斷閥）
NVP10/NVP20：不銹鋼 EP 閥體，VCR 接頭，耐腐蝕性工藝氣體；場景：PVD、LPCVD 爐體氣路開關、N?吹掃、特種反應氣通斷。
3.3QR/3QB 微型比例電磁閥（小流量氣體精密配比）
3QB：寬度 10mm 超薄比例閥，0~5V 電控調流量；3QR 緊湊型三通直動閥；場景：ALD 微量載氣配比、腔體微量 N?微調、小型等離子設備氣控。
4.M3GB/M4GB 集成閥島（背板式電磁閥組）
M3GB/M4GBR：集成匯流板后配管，多通道氣路集成，潔凈低發塵；場景：設備控制箱集中氣控、晶圓傳輸機械手氣源分配。
適用氣體 & 場景
適用：NF?、SiH?、HCl、Cl?、NH?、N?、Ar、He（腐蝕 / 自燃 / 劇毒特種工藝氣體）
VMB 閥箱、VMP 閥盤、Gas Cabinet 特氣柜：氣瓶后端**切斷、MFC 上下游隔離；
刻蝕、CVD、ALD 機臺機側管路氣源通斷；
大宗高純氮氣 / 氬氣主管支路切斷。
一、全系列型號劃分
型號 接口口徑 定位 GTR200 1/8、1/4 微型小流量、機臺單點調壓 GTR300 1/4、3/8 半導體*常用標準款 GTR400 3/8、1/2 中大流量分支主管調壓 GTR500 3/4 車間支線大流量供氣 GTR600 1 寸 廠區大宗 N?總管穩壓
| 型號 | 接口口徑 | 定位 |
|---|---|---|
| GTR200 | 1/8、1/4 | 微型小流量、機臺單點調壓 |
| GTR300 | 1/4、3/8 | 半導體*常用標準款 |
| GTR400 | 3/8、1/2 | 中大流量分支主管調壓 |
| GTR500 | 3/4 | 車間支線大流量供氣 |
| GTR600 | 1 寸 | 廠區大宗 N?總管穩壓 |
四、NAP vs NVP 選型對照表
型號 驅動方式 適用工況 半導體選型 NAP 外接氣源氣控、無線圈 防爆、無塵潔凈區、特氣柜內部 NAP-P4（無銅） NVP 內置電磁線圈 + 外部先導 設備機臺、PLC 自動控制 NVP-P4（晶圓機械手）
| 型號 | 驅動方式 | 適用工況 | 半導體選型 |
|---|---|---|---|
| NAP | 外接氣源氣控、無線圈 | 防爆、無塵潔凈區、特氣柜內部 | NAP-P4（無銅） |
| NVP | 內置電磁線圈 + 外部先導 | 設備機臺、PLC 自動控制 | NVP-P4（晶圓機械手） |
細分選型后綴
S：標準型：調壓 0～0.8MPa（常規氮氣、CDA）
L：低壓專用型：上限 0.4MPa，微壓精準穩壓（吹掃、氣動驅動用氣）
N：不帶壓力表、J：不配安裝支架，標配卡扣嵌入式圓表（表盤內嵌、節省安裝空間）
S：標準型：調壓 0～0.8MPa（常規氮氣、CDA）
L：低壓專用型：上限 0.4MPa，微壓精準穩壓（吹掃、氣動驅動用氣）
N：不帶壓力表、J：不配安裝支架，標配卡扣嵌入式圓表（表盤內嵌、節省安裝空間）
二、核心結構 & 關鍵參數
平衡式膜片調壓結構
內部平衡閥芯，調壓遲滯＜±2% FS，氣源壓力波動時二次輸出漂移極??；旋鈕按壓自鎖結構，調好壓力按下鎖死，震動、環境變化不會跑壓，半導體潔凈廠房**。
耐壓與調壓區間
一次進氣：*高 1.0MPa；
標準 S：二次調壓 0.02～0.8MPa；低壓 L：0.01～0.4MPa；
使用溫度：-5℃～60℃，潔凈室常溫工況適配；
材質（半導體潔凈規格）
閥體壓鑄鋁合金 + 內壁低析出處理，P6 禁銅可選規格（無銅析出，適配高純 N?/Ar），無橡膠碎屑脫落，滿足 Class1000 潔凈室要求；
安裝方式
面板嵌入安裝 + 外掛支架兩種，氣盤集成模塊化排布緊湊。
平衡式膜片調壓結構
內部平衡閥芯，調壓遲滯＜±2% FS，氣源壓力波動時二次輸出漂移極??；旋鈕按壓自鎖結構，調好壓力按下鎖死，震動、環境變化不會跑壓，半導體潔凈廠房**。
耐壓與調壓區間
一次進氣：*高 1.0MPa；
標準 S：二次調壓 0.02～0.8MPa；低壓 L：0.01～0.4MPa；
使用溫度：-5℃～60℃，潔凈室常溫工況適配；
材質（半導體潔凈規格）
閥體壓鑄鋁合金 + 內壁低析出處理，P6 禁銅可選規格（無銅析出，適配高純 N?/Ar），無橡膠碎屑脫落，滿足 Class1000 潔凈室要求；
安裝方式
面板嵌入安裝 + 外掛支架兩種，氣盤集成模塊化排布緊湊。
三、半導體全場景應用
1、廠務大宗氣體系統（CDS 供氣）
全廠氮氣 N?、氬氣 Ar、干燥壓縮空氣 CDA分支管路二級穩壓；空壓機后端分配管路調壓，穩定機臺前端供氣壓力。
全廠氮氣 N?、氬氣 Ar、干燥壓縮空氣 CDA分支管路二級穩壓；空壓機后端分配管路調壓，穩定機臺前端供氣壓力。
2、特氣柜 / Gas Cabinet 輔助用氣
AGD 金屬隔膜閥驅動氣源、
AGD 金屬隔膜閥驅動氣源、
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您訪問的日本進口CKD喜開理NVP/NAP系列氣控隔膜閥產品信息，由玉崎半導體(深圳)有限公司自行發布提供，產品價格為面議，如您想了解更多關于日本進口CKD喜開理NVP/NAP系列氣控隔膜閥型號、參數、用途等信息，歡迎咨詢。
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