近日，香港中文大學電子工程學院引入由Quantum Design中國公司引進的新版小型臺式無掩膜直寫光刻系統- MicroWriter ML3。該設備由工程學院副院長，材料研究中心主任許建斌教授課題組主導應用，重點為納米電子學及光子學、二維材料、能源科技等前沿領域的研究提供關鍵微加工技術支持，助力香港中文大學在上述領域突破技術瓶頸、產出高水平科研成果。

香港中文大學完成安裝的小型臺式無掩膜直寫光刻系統- MicroWriter ML3

作為當前微加工領域的核心設備之一，小型臺式無掩膜直寫光刻系統- MicroWriter ML3，無需制作掩膜版，可直接將設計好的版圖文件，如電路結構，微流控通道，光學微柵等，在光刻膠襯底上直接曝光。這一特性不僅省去了傳統光刻流程中掩膜版設計、制作與適配的復雜環節，更憑借高效率、高精度、自動化等技術特點，大幅縮短微加工周期、提升工藝穩定性，廣泛適用于納米電子器件制備、微納光子結構加工、生物微流控芯片研發等各類微加工相關科研場景。

值得關注的是，截至目前，MicroWriter ML3在國內已有上百家用戶單位，經過多年實際應用驗證與技術迭代，其性能穩定性與工藝適配性獲得學界廣泛認可，依托該設備的諸多高水平科研成果已在眾多期刊發表，充分證明了其在推動前沿微納研究中的核心價值。

此次落戶于香港中文大學的MicroWriter ML3為最新升級版本，在技術參數上實現多維度優化，進一步拓展了科研應用邊界：

• 分辨率覆蓋全面：提供 0.4 μm、0.6 μm、1 μm、2 μm、5 μm 五種加工分辨率，可滿足從精細納米結構到常規微尺度圖形的多樣化加工需求；

• 光源適配靈活：集成 405 nm 與 365 nm 雙光源，支持自動切換模式，可兼容各類正性、負性光刻膠，無需更換光源模塊即可實現不同光刻膠的工藝優化；

• 套刻精度超卓：最高套刻精度優于 0.5 μm，確保多層微結構疊加加工時的對準精度，為復雜器件（如多層納米電路、異質結微器件）的制備提供關鍵保障；

• 工藝能力拓展：具備背面對準功能，可實現透明襯底、柔性襯底等特殊基底上的精準光刻，豐富了微加工工藝的應用場景；

• 加工效率超高：最大直寫速度超過 180 mm2/min，在保證精度的同時顯著提升加工效率，滿足批量樣品制備與快速工藝驗證需求。

小型臺式無掩膜直寫光刻系統- MicroWriter ML3

Quantum Design中國始終以國內科研需求為核心，充分發揮 “前沿技術橋梁" 作用，持續將國外具有優質前沿技術特色的設備引入國內，為科研工作者提供技術支持與服務保障。此次與香港中文大學的合作，不僅進一步擴大了公司設備技術在粵港澳大灣區科研領域的認可度，更標志著雙方推動國內前沿微納電子學領域研究的重要實踐。

未來，隨著 MicroWriter ML3 在香港中文大學的常態化應用，其高效、精準的微加工能力將為該校相關領域研究提供更堅實的技術支撐，助力科研團隊在納米電子器件性能優化、二維材料器件集成、新型能源存儲微結構設計等方向取得更多突破性進展，推動我國在前沿納米科技領域的研究水平進一步提升。