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當(dāng)前位置:北京錦正茂科技有限公司>>技術(shù)文章>>真空磁場退火爐的真空環(huán)境要求

真空磁場退火爐的真空要求,是根據(jù)處理材料的特性和工藝需求確定的,常規(guī)工藝只需要達(dá)到中高真空即可,特殊材料需要更高的真空度?,具體要求如下:
常規(guī)磁性薄膜改性、普通永磁材料退火,極限真空度達(dá)到?6×10^-4Pa ~ 6×10^-5Pa(冷態(tài))?就能滿足需求,這個真空度可以避免樣品在高溫退火過程中氧化,也能隔絕雜質(zhì)氣體對材料性能的影響,是目前絕大多數(shù)科研和工業(yè)設(shè)備的標(biāo)準(zhǔn)配置。
對于易氧化、易揮發(fā)的特種合金、納米磁性材料、或者對純度要求*高的半導(dǎo)體材料退火,需要更高的真空度要求,一般要求冷態(tài)極限真空不低于?1×10^-6Pa?,同時對系統(tǒng)漏率要求更嚴(yán)格:常規(guī)工藝要求漏率低于10^-11Pa·L/s,高真空工藝還需要進(jìn)一步降低漏率,并且要提前對真空腔體進(jìn)行烘烤除氣,減少腔體內(nèi)壁釋放的雜質(zhì)氣體。
除了極限真空度,工藝對保壓性能也有要求:抽到目標(biāo)真空度后關(guān)閉泵組保壓12小時,壓升率需要控制在?1×10^-3Pa·L/s?以內(nèi),才能保證整個退火過程中真空度穩(wěn)定,不會因為漏率過大導(dǎo)致真空度下降,*終影響材料性能。
如果工藝需要惰性氣氛保護(hù),設(shè)備還要預(yù)留氣氛進(jìn)氣接口,真空系統(tǒng)需要支持抽真空-通氣氛的循環(huán)操作,滿足特殊氣氛退火的需求。
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