熱分析-紅外-氣質(zhì)聯(lián)用系統(tǒng) 參考價：面議
熱分析-紅外-氣質(zhì)聯(lián)用系統(tǒng)介紹：珀金埃爾默提供*的產(chǎn)品和技術服務，可將不同產(chǎn)品聯(lián)合使用，充分利用各個 儀器的優(yōu)勢，產(chǎn)生協(xié)同效應，達到單次試驗獲得多個結果的目的。
紅外成像系統(tǒng) 參考價：面議
紅外成像系統(tǒng)介紹：Spotlight400/400NFT-IR紅外光譜化學成像系統(tǒng)以高效率享譽業(yè)界的實驗室傅里葉變換紅外光譜化學成像系統(tǒng)，在廣泛的行業(yè)里顯著地提...
三重四級桿型電感耦合等離子體質(zhì)譜儀 參考價：面議
NexION1000GICP-MS三重四級桿型電感耦合等離子體質(zhì)譜儀介紹：NexION1000G專為挑戰(zhàn)所有基體、挑戰(zhàn)所有干擾、挑戰(zhàn)所有顆粒分析而設計，將三重四...
三重四級桿液相色譜質(zhì)譜聯(lián)用儀 參考價：面議
QSight三重四級桿液相色譜質(zhì)譜聯(lián)用儀介紹：QSightTM三重四極桿液質(zhì)聯(lián)用儀具有層流質(zhì)譜技術和加熱誘導脫溶劑技術（HSIDTM），性能穩(wěn)定抗污染，非常適用...
氣相色譜儀 參考價：面議
Clarus氣相色譜儀介紹：作為珀金埃爾默多種多樣的氣相色譜系列產(chǎn)品的基礎，Clarus?690/590氣相色譜儀代表了行業(yè)內(nèi)先進的技術革新。擁有配置靈活性、優(yōu)...
全自動熱脫附儀 參考價：面議
urboMatrix全自動熱脫附儀介紹：作為熱脫附（TD）技術的行業(yè)，珀金埃爾默除了可提供五種不同的配置儀器，還可以提供在線VOC分析的全套設備，還可以在采集前...
全自動頂空進樣器 參考價：面議
全自動頂空進樣器介紹：TurboMatrix頂空和帶捕集阱頂空自動進樣器TurboMatrix頂空和捕集阱頂空能夠提供的精度、靈敏度和分析效率。是尋求快速樣品處...
氣相色譜/質(zhì)譜聯(lián)用儀 參考價：面議
氣相色譜/質(zhì)譜聯(lián)用儀介紹：珀金埃爾默推出的GCMS 2400? System，為各種類型和規(guī)模的實驗室提供了兼具優(yōu)異靈敏度和穩(wěn)定性的先 進工具。
蔡司共聚焦顯微鏡 參考價：面議
蔡司共聚焦顯微鏡的多功能 Smartproof 5 快速轉(zhuǎn)盤共聚焦顯微鏡是用于表面分析的集成系統(tǒng)：快速，精確，可重復。可用于各種工業(yè)應用——比如粗糙度分析和地形...
化學氣相沉積系統(tǒng) 參考價：面議
化學氣相沉積系統(tǒng)PECVD沉積設備SI 500 PPD便于在從室溫到350℃的溫度范圍內(nèi)進行SiO2、SiNx、SiOxNy和a-Si的標準的化學氣相沉積工藝。
深硅刻蝕 參考價：面議
進口深硅刻蝕：三螺旋平行板天線(PTSA)等離子源是SENTECH等離子體工藝設備的屬性。PTSA源能生成具有高離子密度和低離子能量的均勻等離子體。它具有高耦合...
沉積系統(tǒng) 參考價：面議
三到六個端口傳送腔室可用于集成ICP等離子刻蝕機、RIE刻蝕機、原子層沉積系統(tǒng)、PECVD和ICPECVD沉積設備，以滿足研發(fā)的要求。樣品可以通過預真空室和/或...
刻蝕系統(tǒng) 參考價：面議
刻蝕系統(tǒng)三到六個端口傳送腔室可用于集成ICP等離子刻蝕機、RIE刻蝕機、原子層沉積系統(tǒng)、PECVD和ICPECVD沉積設備，以滿足研發(fā)的要求。樣品可以通過預真空...
反應離子刻蝕機 參考價：面議
反應離子刻蝕機我們的等離子蝕刻設備包括用功能*的用戶友好軟件與模擬圖形用戶界面，參數(shù)窗口，工藝窗口，數(shù)據(jù)記錄和用戶管理。
英國光柵刻蝕 參考價：面議
英國光柵刻蝕三螺旋平行板天線(PTSA)等離子源是SENTECH等離子體工藝設備的屬性。PTSA源能生成具有高離子密度和低離子能量的均勻等離子體。它具有高耦合效...
ZEISS掃描顯微鏡 參考價：面議
ZEISS掃描顯微鏡系列將高性能的掃描電鏡和直觀的、友好的用戶界面體驗結合在一起， 同時能夠吸引經(jīng)驗豐富的用戶以及新用戶。無論是在生命科學， 材料科學， 或例行...
雙束電鏡 參考價：面議
雙束電鏡借助這款掃描電子顯微鏡的超快速度,開啟您對新維度的探索。現(xiàn)如今,在MultiSEM出色的圖像采集速度推動下,您終于能夠以納米級的圖像分辨率對大型樣品進行...
掃描電鏡 參考價：面議
掃描電鏡操作直觀的模塊化掃描電子顯微鏡(SEM)平臺適用于日常檢測與研究應用，高可用性：EVO配備的兩種用戶界面(SmartSEMTouch和SmartSEM)...
雙束掃描電鏡 參考價：面議
雙束掃描電鏡借助這款掃描電子顯微鏡的超快速度,開啟您對新維度的探索。現(xiàn)如今,在MultiSEM出色的圖像采集速度推動下,您終于能夠以納米級的圖像分辨率對大型樣品...
3D掃描電鏡 參考價：面議
蔡司3D掃描電鏡是一款具有處理各種材料能力的分析型顯微鏡，為您提供優(yōu)異的成像品質(zhì)。
日本傾斜角刻蝕 參考價：面議
日本傾斜角刻蝕代表了直接置片等離子刻蝕機家族，它結合了RIE的平行板電極設計和直接置片的成本效益設計的優(yōu)點。Etchlab200的特征是簡單和快速的樣品加載，從...
SENTECH二維材料刻蝕 參考價：面議
SENTECH二維材料刻蝕能夠在低溫100°C下高均勻度和高保形性地覆蓋敏感襯底和膜層，在樣品表面提供高通量的反應性氣體，而不受紫外線輻射或離子轟擊。
德國電子束曝光 參考價：面議
德國電子束曝光主要功能：曝光速度快精度高，可采用大寫場大束流進行曝光，適用于科研及小批量生產(chǎn)中使用；自動化程度高，除了放樣取樣外，整個曝光過程只需要編輯曝光的相...
國產(chǎn)電子束光刻 參考價：面議
國產(chǎn)電子束光刻主要功能：曝光速度快精度高，可采用大寫場大束流進行曝光，適用于科研及小批量生產(chǎn)中使用；自動化程度高，除了放樣取樣外，整個曝光過程只需要編輯曝光的相...
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