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破壞性光波--氙燈老化試驗箱產品用途:該產品采用能模擬全陽光光譜的氙弧燈來再現不同環境下存在的破壞性光波,可以為科研、電子產品開發和質量控制提供相應的環境模擬和加速試驗依據。可用于新材料的選擇、改變現有材料或評估材料組成變化后耐用性的變化試驗,可以很好的模擬在不同環境條件下材料暴露在陽光下所產生的變化結果。型號BD/SN-900內形尺寸D×W×H950×950×850:mm一、技術規格:1.溫度范圍:RT+10℃~70℃2.濕度范圍:50%~98%R.H3.黑板溫度:63℃、100℃±2℃4.溫
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紫外老化試驗箱光源1.光源采用4支UV系列額定功率為40W的紫外熒光燈管作發光源(燈管長度1200mm),平行分布在試驗箱的頂部;2.符合標準燈管有UVA-340或UVB-313光源供用戶選擇配置;(任選一種)3.UVA-340燈管的發光光譜能量主要集中在315nm~400nm波長之間;4.UVB-313燈管的發光光譜能量主要集中在280nm~315nm波長之間;5.由于熒光燈光能量輸出會隨時間而逐步衰減,為了減小因光能量衰減造成試驗的影響,所以本試驗箱在所有的8支燈管中每隔1/4的熒光燈壽命時
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一、預處理系統的必要性:在半導體生產工藝中,光刻是集成電路圖形轉移重要的一個工藝環節,而涂膠質量直接影響到光刻的質量,涂膠工藝顯得更為必要,尤其在所刻線條比較細的時候,任何一個環節出現一點紕漏,都可能導致光刻的失敗。在涂膠工藝中絕大多數光刻膠是疏水的,而晶片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,如果在晶片表面直接涂膠的話,會造成光刻膠和晶片的黏合性較差,甚至造成局部的間隙或氣泡,涂膠厚度和均勻性都受到影響,進而會影響了光刻效果和顯影,尤其是正膠,顯影時顯影液會侵入光刻膠和晶片的連接處,容易造成漂條、
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什么是半導體真空涂膠烘箱產品用途:該產品主要用于半導體行業,HMDS預處理系統通過對烘箱HMDS預處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS,降低了HMDS處理后的硅片接觸角,降低了光刻膠的用量,提高光刻膠與硅片的黏附性。一、產品規格:型號:BD/HMDS-6090內形尺寸:450×450×450型號:BD/HMDS-6210內形尺寸:560×640×600二、技術參數:1、控溫范圍:RT+10~250℃2、溫度分辨率:0.1℃3、溫度波動度:±1
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水紫外老化試驗箱適用于什么行業水紫外老化試驗箱主要嚴格參照JC/T485-2007的技術參數設計制造水紫外老化試驗箱主要適用于密封膠的紫外線試驗。利用紫外線燈模擬產品在水中UV照射之效果,被測試材料放置于一定條件下的光照中進行測試。用數天或數周的時間即可重現戶外數月或數年出現的老化。可自行設定輻照時間;試驗時間帶停電保持功能,來電后自動恢復運行。設備采用UV300W紫外線燈管為光源,通過模擬自然陽光中的紫外輻射狀態條件對材料進行加速耐候性試驗,以獲得材料耐候性的結果。燈管有效使用壽命可在500小
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周期浸潤腐蝕試驗箱主要參考技術參數設備型號及尺寸:(可以定做修改尺寸)型號:BD/ZQJR-010工作室尺寸(mm):1000*1000*1000外形尺寸(mm):大約1350*1450*1600液槽尺寸(mm):800*350*400(內分為二個液槽)一、主要技術指標:1.試驗室溫度范圍:常溫~80℃(無制冷)2.試驗室溫度均勻度:≤2℃3.試驗室溫度波動度:±0.5℃4.槽內溶液溫度控制范圍:常溫~80℃(無制冷)5.槽內溶液溫度均勻度:≤2℃6.箱內濕度范圍:60~98%RH(使用壓縮空氣
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HMDS真空烘箱產品用途:該產品主要用于半導體行業,HMDS預處理系統通過對烘箱HMDS預處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS,降低了HMDS處理后的硅片接觸角,降低了光刻膠的用量,提高光刻膠與硅片的黏附性。一、產品規格:型號:BD/HMDS-6090內形尺寸:450×450×450型號:BD/HMDS-6210內形尺寸:560×640×600二、技術參數:1、控溫范圍:RT+10~250℃2、溫度分辨率:0.1℃3、溫度波動度:±1℃4、達
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沙塵試驗箱結構沙塵試驗箱體結構:1.外殼均采用A3鋼板數控機床加工成型,外殼表面進行防靜電噴塑處理,更顯光潔、美觀;2.內膽采用SUS304不銹鋼板;3.可視玻璃門,便于觀測試驗箱體內被測試樣狀況;4.試驗箱底部采用高品質可固定式PU活動輪;5.試驗箱底部有更換粉塵裝置;沙塵試驗箱粉塵預熱系統:1.用管道包箍式云母片加熱圈,安全熱量穩定;2.具有加熱超溫控制;控制系統:1.設備主控制器采用進口PLC程序控制液晶顯示屏,采用全中文顯示工作時間等;2.配備抽真空執行器件,“施耐德”執行元器件;3.揚

