其他設(shè)備: SpecMetrix 涂層厚度測(cè)試 C&W 鹽霧箱頗爾Pall 過(guò)濾與分離 Hentec Industries 可焊性測(cè)試系統(tǒng) 賓得測(cè)試箱飛馳Fritsch 球磨粉碎與粒度分析 Systech Illinois 微量氧微量水測(cè)試博勢(shì)Proceq巡鷹智檢便攜硬度及探傷阿朗Arun 直讀光譜儀小坂Kosaka 表面測(cè)量?jī)x 賽默飛世爾Thermo Fisher（FEI）掃描電鏡 TMI 軟包表面性能測(cè)試 Messmer Büchel 軟包強(qiáng)度測(cè)試 CMC-KUHNKE 金屬罐體檢測(cè)測(cè)試 Ray-Ran 高分子聚合物測(cè)試 Eagle Vision 包裝表面視覺(jué)檢測(cè) TM Electronics 檢漏儀

金相切片耗材: 金剛石拋光液金剛石磨盤砂紙

INSTEC 冷熱臺(tái)

島津Shimadzu 物理性分析: 粒度分析儀力學(xué)分析熱分析儀

島津Shimadzu 無(wú)損檢測(cè): 非破壞檢查裝置氦質(zhì)譜檢漏儀

島津Shimazu 元素分析與光譜儀: 分光光度計(jì) 電感耦合等離子發(fā)射光譜/質(zhì)譜儀光電直讀光譜儀便攜式拉曼傅立葉變換紅外光譜儀波長(zhǎng)色散型X射線熒光光譜儀能量色散型X射線熒光光譜儀 X射線衍射儀

島津Shimadzu 色譜: 氣相色譜儀氣相色譜質(zhì)譜聯(lián)用儀(GC-MS) 色譜工作站液相色譜儀液相色譜質(zhì)譜聯(lián)用儀

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應(yīng)用案例 | 快速、可靠的清潔度分析解決方案

時(shí)間：2024/6/14閱讀：537

對(duì)于汽車制造商和汽車零部件供應(yīng)商而言，在整個(gè)工作流程中快速、準(zhǔn)確、可靠地獲得清潔度結(jié)果是一項(xiàng)顯著優(yōu)勢(shì)。對(duì)于這種質(zhì)量控制任務(wù)，通常使用來(lái)自多個(gè)供應(yīng)商的多臺(tái)儀器來(lái)執(zhí)行分析。出于這個(gè)原因，徠卡顯微系統(tǒng)公司和頗爾公司攜手努力提供最佳的清潔度分析整體解決方案。客戶可以獲得徠卡和頗爾的整體解決方案和專家建議，優(yōu)化并保持產(chǎn)品性能。

制造技術(shù)清潔度

汽車、航空航天、電子和制藥等行業(yè)制造的產(chǎn)品及其組件的性能、壽命和質(zhì)量可能對(duì)污染很敏感^[1,2]。產(chǎn)品中的異物可能會(huì)造成嚴(yán)重?fù)p壞，因此，這些行業(yè)通常遵循技術(shù)清潔度標(biāo)準(zhǔn)。隨著時(shí)間的推移，這些清潔度標(biāo)準(zhǔn)的要求會(huì)變得更加嚴(yán)格。還有一些例子，比如電動(dòng)汽車，由于它的零部件來(lái)自多個(gè)行業(yè)，即汽車和電子零部件以及電池等，因此需要多個(gè)行業(yè)的技術(shù)清潔度標(biāo)準(zhǔn)。

根據(jù)產(chǎn)品制造商的需求，從顆粒提取到自動(dòng)顆粒表征和分類，清潔度分析的工作流程可能涉及多種儀器。光學(xué)成像方法常用于顆粒表征^[1,2]。顆粒的快速化學(xué)/元素分析有利于識(shí)別污染源^[3]。制造商可以利用徠卡顯微系統(tǒng)和頗爾公司提供的合作來(lái)優(yōu)化整體清潔工作流程^[3]。

清潔度分析工作流程 - 步驟

① 零件/組件準(zhǔn)備

零件類型、所需方法

制備方法將取決于零件或組件的類型以及要分析的樣本大小。確定特定零件和樣品大小所需的解決方案。

圖1：圖片顯示了活塞和曲軸。

② 提取/過(guò)濾

攪拌、零件沖洗、超聲波、測(cè)試臺(tái)

通過(guò)噴涂、沖洗或超聲波處理從零件和組件中提取污染物顆粒。然后使用過(guò)濾器過(guò)濾清潔溶液（過(guò)濾器類型取決于清潔的部件），最后對(duì)留在膜上的顆粒進(jìn)行分析。該任務(wù)可使用頗爾不同尺寸的洗滌柜和過(guò)濾器。將過(guò)濾器干燥，然后進(jìn)行評(píng)估。

圖2：頗爾的清洗柜，可從組件中提取顆粒。

③ 顆粒物分析

檢測(cè)、量化、分類

根據(jù)顆粒的大小和類型，即它們?cè)斐蓳p害的可能性，對(duì)顆粒進(jìn)行檢測(cè)、量化和分類。它是通過(guò)徠卡清潔度分析解決方案，使用復(fù)合或數(shù)碼顯微鏡和清潔度軟件模塊完成的。

圖3：用于顆粒分析的徠卡清潔解決方案。

④ 檢查結(jié)果

ISO 16232 和 VDA19

查看分析結(jié)果并確定是否存在任何潛在的破壞性顆粒。反光金屬顆粒具有更高的損壞可能性，徠卡成像解決方案可以自動(dòng)識(shí)別這些金屬顆粒。這些具有潛在危險(xiǎn)的顆粒會(huì)影響組件的使用壽命，甚至導(dǎo)致系統(tǒng)故障。

圖4：從組件中提取后，存在于過(guò)濾器上的金屬顆粒。

⑤ 反應(yīng)

應(yīng)用對(duì)策

借助全面清潔度分析的結(jié)果，可以逐步優(yōu)化工作流程。然后可以識(shí)別潛在的破壞性顆粒，確定污染源，然后消除破壞性顆粒。目的改進(jìn)清潔度分析過(guò)程，以消除和最大限度地減少污染。

圖5：使用清潔軟件對(duì)過(guò)濾器上的顆粒進(jìn)行分析。

清潔度分析解決方案

例如徠卡顯微系統(tǒng)的清潔度分析解決方案包括Emspira 3數(shù)碼顯微鏡、DM6 M顯微鏡、或使用清潔專家分析軟件的DM6 M LIBS二合一系統(tǒng)。

參考文獻(xiàn)：

1.Y. Holzapfel, J. DeRose, G. Kreck, M. Rochowicz, Cleanliness Analysis in Relation to Particulate Contamination: Microscopy based measurement systems for automated particle analysis, Science Lab (2014) Leica Microsystems.

2.N. Ecke, Basics in Component Cleanliness Analysis, Science Lab (2017) Leica Microsystems.

3.J. DeRose, K. Scheffler, Cleanliness Analysis with a 2-methods-in-1 solution: See the particles and know their composition at the same time, Science Lab (2019) Leica Microsystems.

4.N. Ecke, C. Goasdoué, Cleanliness Workflow from Leica and Pall: Free Webinar On-Demand, Science Lab (2017) Leica Microsystems.

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