電子級超高純大宗氣體是芯片制程關鍵介質，傲領Orthopure系列色譜儀覆蓋超高純氣體雜質檢測需求，采用HDID、FID檢測器精準檢測H?、N?、Ar、CO、CO?、CH?、NMHC等ppb級痕量雜質氣體，把控超高純氣體純度。

用于連續品質控制（CQC）的雜質測量

芯片刻蝕工藝使用Cl?、HBr、He、O?等工藝氣體，易造成晶圓表面雜質殘留和微觀缺陷等問題。飛行時間二次離子質譜儀（TOF-SIMS）作為半導體摻雜和缺陷分析的有效技術手段，可為半導體工藝優化提供科學的數據支撐。

半導體硅晶圓缺陷分析

芯片光刻、刻蝕、?薄膜沉積、清洗等工藝會產生酸性、堿性、有機類廢氣污染物。雪迪龍智能煙氣在線監測系統，可對酸性廢氣排口、堿性廢氣排口、有機廢氣排口和廢氣焚燒排口實現廢氣排放精細化管控。

酸性氣體監測-NOx、HF、HCl

紫外法CEMS

傅里葉紅外法CEMS

原位激光氣體分析儀

堿性氣體監測-NH?

有機氣體監測-揮發性有機物（NMHC)、苯系物

顆粒物監測

雪迪龍水質在線監測系統可實現廢水排放主動管控，依據《排污單位自行監測技術指南 電子工業》（HJ 1253-2022）要求，廢水總排口需自動監測流量、pH值、化學需氧量、氨氮核心指標；半導體液晶面板制造（有表面涂裝工序的）重點排污單位，增設總磷自動監測。

廢水排放監測-pH值、CODCr、氨氮、總磷、總氮、重金屬等