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聯軸器/耦合器: Superbolt Malmedie STS Coupling GmbH Rothe Erde Winkel Gather Wippermann STUEWE Transfluid NORELEM Elbe KTR

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Hellma CaF?氟化鈣晶體｜193nm深紫外核心材料

時間：2026/3/19閱讀：573

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193nm深紫外光學系統中，材料性能直接決定系統精度與壽命。

Hellma作為光學材料供應商，其CaF?（氟化鈣）晶體憑借超高透射、極低雙折射、高激光耐久等核心優勢，成為193nm光刻、準分子激光等系統的優選材料，適配納米級精密成像與高功率激光傳輸需求。

一、核心光學性能：賦能193nm深紫外精密應用

Hellma CaF?晶體針對193nm波段專項優化，光學參數達行業水平：193nm波段透射率>99.3%/cm，10mm厚UV級產品達>99.8%，減少能量損耗；

應力雙折射<5nm/cm（RMS<3nm/cm），波前畸變極小，支撐7nm及以上光刻制程；nd=1.43384、vd=95.23，色差校正能力強；

折射率均勻性<15ppm，適配光刻機大型物鏡；激光損傷閾值7 J/cm2，可承受10?次以上準分子激光脈沖，延長使用壽命、降低維護成本。

二、激光耐久分級：適配不同光刻/激光工況

為適配不同工況，該晶體按能量、脈沖、頻率分為四級：

LD-A（超高級）適配7nm及以下光刻；

LD-B（高級）適用于中高能量準分子激光與光刻照明；

LD-C適配常規能量激光傳輸與檢測；

LD-D（標準）適用于低能量深紫外實驗與簡易檢測。

典型規格示例：CaF?圓片（193nm、LD-A、單晶、取向<111>，φ28.0mm×5.0mm，公差±0.1mm，表面粗糙度Rq 2µm，倒角0.5mm），可按需定制。

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三、物理與環境特性：適應嚴苛場景

Hellma CaF?晶體具備出色的環境適應性：大氣下耐溫600℃，熱導率9.71 W/(m?K)，抗熱變形，適配溫度波動環境；

抗高能輻射、不易潮解氧化，適配光刻車間、太空等嚴苛場景；單晶φ250mm、多晶φ440mm，滿足大型光學組件需求。

四、典型應用：覆蓋深紫外領域

其廣泛應用于193nm相關光學系統：193nm ArF光刻系統（7nm及以上制程物鏡、照明系統）、深紫外準分子激光系統（傳輸、光束整形、檢測組件），以及紫外光譜分析、空間光學、高功率激光實驗等領域。

綜上，Hellma CaF?晶體憑借核心光學優勢、靈活分級及優異環境適應性，成為193nm深紫外系統優選材料，為半導體光刻、準分子激光等行業技術升級提供有力支撐。

Hellma CaF?氟化鈣晶體｜193nm深紫外核心材料

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