鄭科探蒸鍍儀與直流磁控濺射儀主打臺(tái)式小型化、高真空與全自動(dòng)控制,適配高校及科研實(shí)驗(yàn)室。蒸鍍儀兼容多種金屬、化合物與有機(jī)物,溫控精準(zhǔn)、膜層均勻,性?xún)r(jià)比高。直流磁控濺射儀可單 / 雙靶作業(yè),制備多層膜,膜質(zhì)致密、附著力強(qiáng),基板溫升低,適合熱敏材料。兩款設(shè)備均采用觸摸屏編程,操作簡(jiǎn)便、穩(wěn)定性好,支持模塊化定制,售后響應(yīng)快,是科研鍍膜的高性?xún)r(jià)比選擇。
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