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2026/07/27
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真空鍍膜掩模版，光刻掩模版通過物理遮擋，讓鍍膜材料（如金屬、有機發(fā)光材料）精確地沉積在基板的特定區(qū)域，從而形成所需的電路或像素圖案，可以用于真空鍍膜設備，如濺射儀、蒸鍍儀等，可以制備大多數(shù)金屬、有機物薄膜，搭配高真空分子泵機組可以讓膜層質(zhì)量更上一層樓
