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貨物所在地：北京北京市
更新時間：2026-04-07 21:00:07
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低溫蒸發(fā)源
產(chǎn)品系列:
RHE-L
主要特點:
超高真空兼容 |
高效的水冷設計 |
低溫下精確控溫 |
坩堝容積大可達155cc |
低溫蒸發(fā)源主要應用:
MBE,表面科學,薄膜生長，樣品制備以及II-VI半導體薄膜研究和太陽能領域
技術參數(shù):
安裝法蘭 | DN63CF (O.D. 4.5'' ), DN100CF (O.D. 6.0'' ) |
腔內(nèi)長度 | 250~580mm 可選 |
腔內(nèi)直徑 | 56mm, 95mm |
工作溫度 | zui高400℃ |
加熱方式 | 鉭絲加熱 |
溫度穩(wěn)定性 | ±0.1℃ |
溫度測量 | K型熱偶 |
烘烤溫度 | 250℃ |
源數(shù)量 | 1 |
坩堝材料 | 石英, 氧化鋁, 熱解氮化硼, 可定制其他材料 |
坩堝容積 | 60cc, 155cc |
冷卻方式 | 一體式水冷 |
擋板 | 無 |
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