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高溫真空下,表面SiO?保護(hù)膜直接升華消失,內(nèi)部 MoSi?快速分解、粉化、脆斷。
純真空(無惰性氣體):1200℃以上幾百小時(shí)內(nèi)損壞,1400℃幾乎不能用。
僅能用于:預(yù)抽真空后充入 N?/Ar 惰性氣體(非純真空),壽命約 2000–3000h。
真空下不分解、不粉化,僅輕微老化(電阻緩慢上升)。
1000–1300℃真空:壽命3000–5000h,接近空氣環(huán)境。
1400℃真空(涂層款):可達(dá)2000–3000h,遠(yuǎn)好于硅鉬棒。
| 工況 | 硅碳棒(SiC) | 硅鉬棒(MoSi?) |
|---|---|---|
| 1000–1200℃ 純真空 | 3000–5000h(穩(wěn)定) | <500h(易脆斷) |
| 1300–1400℃ 真空 + 惰性氣 | 2000–3000h(可用) | 1500–2500h(勉強(qiáng)用) |
| 1600–1700℃ 真空 | 不推薦(超溫) | 禁止(快速損壞) |
| 對(duì)比維度 | 硅鉬棒 (MoSi?) | 硅碳棒 (SiC) |
|---|---|---|
| 真空適用性 | 極差,保護(hù)膜無法形成,會(huì)迅速損壞 | 可用,是真空爐中常見的非金屬加熱元件 |
| 失效原理 | 因缺乏氧氣導(dǎo)致保護(hù)膜失效,材料直接升華 | 在真空中也會(huì)加速老化,但過程相對(duì)緩慢 |
| 結(jié)論 | 不適用于真空環(huán)境 | 真空環(huán)境下的更優(yōu)選擇 |
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