當前位置:深圳九州工業品有限公司>>技術文章>>orc 半導體光刻機用途和特長是什么?
orc 半導體光刻機用途:
WL-CSP,IGBT,CIS等的 6/8/12 英寸光刻。
特長:
1.寬頻譜光刻 (與菜單連動的 ghi線 gh線, i線的自動切換)。
2.搭載可變NA功能 (可變為0.16和0.1)。
3.最多8Field的拼接設計格式。
4.光學系統不受感光材揮發氣體和周圍環境中化學物質影響。
| 型式 | PPS-8200/8300 |
|---|---|
| wafer尺寸 | 6/8/12 英寸 |
| 解像力 | 2.0 µmL/S(感光材厚2.0 µm) |
| NA(開口數) | 0.16、0.1可變 |
| 縮小比 | 1:1 |
| Field尺寸 | 52mm × 33mm |
| 光刻波長 | ghi-Line gh-line i-line(與菜單連動) |
| 視野尺寸 | 6inch |
| 重復對位精度 | ≦0.5 µm(|Ave|+3σ) |
| 裝置尺寸/重量 | (W)2,260×(D)3,460×(H)2,500mm / 5,500kg |
| 主要特注選項規格 | 反面對位功能系統 晶圓邊緣曝光 晶圓不曝光功能 薄晶圓搬送系統 GEM通信對應 在線對應 |
請輸入賬號
請輸入密碼
請輸驗證碼
以上信息由企業自行提供,信息內容的真實性、準確性和合法性由相關企業負責,化工儀器網對此不承擔任何保證責任。
溫馨提示:為規避購買風險,建議您在購買產品前務必確認供應商資質及產品質量。