一、系統日常維護
 

　　(一)光學腔體維護
 

　　原位紅外漫反射系統依托光路反射采集光譜信號，腔體需保持密閉無塵。日常關機后密封光路艙門，防止粉塵、水汽附著反光鏡、聚焦透鏡、漫反射積分球內壁；嚴禁徒手觸碰光學鏡片，鏡片出現污漬，使用專用紅外無塵紙搭配無水乙醇單向擦拭，避免鏡片鍍膜劃傷、氧化，降低光反射效率。實驗環境恒溫恒濕管控，環境濕度控制40%以下，防止光學部件霉變起霧。
 

　　(二)原位反應池維護
 

　　原位反應池為核心測試部件，適配高溫、通氣、真空多工況測試。每次實驗結束后，清理池體內樣品殘渣、積碳、反應物殘留，避免殘留物質吸附光路、干擾基線；檢查池體石英窗片、密封氟膠密封圈完整性，高溫工況易老化變形，出現漏氣、透光衰減及時更換；核對氣路接口密封性，防止測試氣體泄漏、空氣倒灌，影響原位反應測試精度。
 

　　(三)氣路與溫控組件維護
 

　　配套供氣、真空、溫控模塊定期養護，過濾濾芯每月更換一次，攔截水汽、雜質；管路定期吹掃，杜絕殘留反應氣體腐蝕管路；高溫加熱基座避免驟冷驟熱，防止基座形變、熱電偶失靈；線路接頭定期緊固，防止信號接觸不良，造成光譜圖譜漂移、斷點。
 

　　(四)整機環境養護
 

　　設備遠離強電磁、強振動、酸堿揮發環境，獨立穩壓供電，避免電壓波動干擾紅外光源穩定性；長期停用每周空載開機運行20min，除濕養護光路模塊，延長光源、檢測器使用壽命。
 

　　二、系統定期校準項目
 

　　(一)光譜基線校準
 

　　基線校準為常規必做項目，分為空白基線、背景基線校準。更換窗片、清理光路、更改測試氣氛及溫度后，必須采集空白背景基線，扣除腔體、氣體、器皿本身紅外吸收干擾；高低溫工況測試前，分段校準溫控基線，消除溫度形變帶來的光路偏移，保證峰位、峰高數據精準。
 

　　(二)波長波數校準
 

　　參照儀器標準規程，使用聚苯乙烯標準校準片，定期校準紅外波數精度，核查吸收峰位置偏差，修正檢測器參數；適配漫反射專屬校準模式，區別于透射紅外校準標準，保障固相粉末、催化劑樣品測試波數合規，校準周期每三個月一次。
 

　　(三)溫控與真空校準
 

　　針對原位工況，外接標準熱電偶校準反應池爐體溫度，修正溫控儀表溫差，避免程序設定溫度與實際樣品溫度不符；真空工況使用標準真空表校準機組負壓數值，保證吸附、脫附、氣氛置換實驗條件精準可控。
 

　　(四)氣路流量校準
 

　　多路供氣模塊定期校準質量流量計，校準氮氣、氬氣、反應活性氣體流量精度，保證氣氛配比、吹掃流速恒定，避免氣體流速不穩，造成原位反應條件不一致，實驗數據重復性變差。
 

　　三、故障預防性校準維護
 

　　1. 圖譜噪聲變大、基線漂移：優先清潔反光光路，重做背景基線校準，排查密封漏氣問題；
 

　　2. 高溫測試重復性差：校準熱電偶、緊固池體卡扣，更換老化密封墊片；
 

　　3. 信號強度衰減：檢查紅外光源能量，清潔積分球內壁，按需校準光源增益參數。
 

　　四、校準與維護禁忌
 

　　1. 非專業人員不得拆卸積分球、光路鏡片，不得私自修改儀器底層校準參數；
 

　　2. 活性腐蝕氣體實驗后，必須惰性氣體吹掃腔體，再關機封存，防止部件腐蝕；
 

　　3. 校準需在恒定溫濕度環境完成，溫差過大直接影響校準結果有效性。