ULVAC Qulee CGM2 系列殘余氣體分析儀(RGA)技術原理、規格參數與真空化工制程應用研究
殘余氣體分析儀(RGA)是真空化工、薄膜制備、半導體工藝中表征腔體氣相組分、評估真空潔凈度、檢測微泄漏的核心分析儀器。本文以 ULVAC 愛發科 CGM2 緊湊型工藝氣體監測儀為研究對象,闡述其四極質譜檢測原理,系統梳理全系列硬件規格、傳感檢測性能,對比傳統差動排氣式 RGA 的技術優勢,針對濺射鍍膜、真空合成、密閉腔體檢漏三類化工真空工藝給出選型方案與質控應用邏輯,為真空工藝設備配套選型提供技術依據。
一、設備核心檢測原理
CGM2 系列采用閉環離子源 + 四極質量過濾器質譜分析架構,待測氣體進入離子源經 70eV 標準電離電壓轟擊形成帶電離子,離子束進入四極桿電場完成質荷比分離,分別通過法拉第杯、二次電子倍增管完成信號采集,將離子電流轉化為分壓數值,同步輸出全質譜圖譜與總壓力數值,實現氣相組分定性、定量同步檢測。設備固有分辨率 M/ΔM=1M,可分離相鄰質量數氣體,規避水汽、氮氣、氧氣峰重疊造成的檢測誤判,適配微量雜質精準定量分析ULVAC SHOW...。
二、系列型號與關鍵技術參數
CGM2 分為 50amu、100amu 兩大產品線,核心規格標準化統一:
CGM2-051(FC 檢測器,1~50amu):基礎型,用于常規腔體水汽、空氣泄漏監測,最小檢測分壓 1×10??Pa;
CGM2-052(FC+SEM 雙檢測器,1~50amu):高靈敏檢漏款,SEM 模式檢出限 1×10?1?Pa,適用于微漏管控;
CGM2-101(FC 檢測器,1~100amu):拓展質量范圍,可檢測高分子有機揮發物;
CGM2-102(FC+SEM 雙檢測器,1~100amu):全功能機型,覆蓋冷媒、清洗液、潤滑油全組分監測。
整機供電 DC24V,額定功率 50W,以太網數據通訊接口;最大耐受工作壓力 2Pa,1Pa 區間檢測線性度優異,無需前置差動分子泵,簡化真空機組管路布局,降低系統泄漏風險;內置一鍵式多氣體檢漏程序,支持自定義特征峰閾值報警,可對接產線 PLC 實現自動化聯鎖管控ULVAC SHOW...。傳感器支持電子轟擊除氣,烘烤設計適配化工潔凈腔體高溫除氣流程,整機通過 CE 電磁兼容與安全標準,滿足無塵化工車間防爆、電磁干擾管控要求。
三、相較于傳統 RGA 的技術革新
傳統在線質譜分析儀必須配置差動排氣系統,兩套真空機組提升設備采購、運維成本,管路接頭增多易產生次生泄漏;CGM2 依托高壓適配離子源優化,可直接接入工藝腔體 1Pa 壓力區間在線檢測,設備體積縮減 60%。同時集成本地數顯單元,無需上位機即可現場讀取分壓、總壓數據,降低工控配套投入;配套 QCS 分析軟件支持長時間質譜數據連續采集,自動生成雜質含量趨勢曲線,便于工藝人員追溯批量不良根源。
四、化工真空領域工程化應用
薄膜化工濺射制程:實時監控 H?O、碳氫雜質,管控膜層光學性能與附著力;
精細化工真空合成反應釜:檢測密封腔體空氣滲入、有機溶劑揮發殘留;
新能源、半導體真空設備:氦檢輔助定位微小漏點,預判密封件老化失效;
高校化工實驗室真空系統:長期監測腔體本底殘余氣體,保障實驗重復性。
在連續化真空化工產線中,CGM2 可實現 24 小時無間斷在線監測,提前預警水汽超標、密封泄漏等工藝風險,減少批量報廢,穩定產品理化指標,是真空化工制程不可h缺的精密氣相分析設備。