聯系電話
深圳市京都玉崎電子有限公司
中級會員·4年
- 聯系人：
- 王城
- 電話：
- 手機：
- 13717023088
- 售后：
- 18594205856
- 地址：
- 深圳市龍華區龍華街道松和社區梅龍大道906號電商大廈3層
- 個性化：
- www.keisoku.cn
- 網址：
- www.tamasaki.cn/
掃一掃訪問手機商鋪
曝光設備基礎知識
什么是曝光裝置？
曝光設備是一種用于半導體和液晶顯示屏制造現場的設備，通過照射光線將電路和像素等圖案描繪到基板上。
由于使用光線且需要在舞臺和其他地點進行精確控制，許多產品體積龐大且價格高達數億美元。 暴露工藝是一種非常重要的裝置，因為它決定半導體和液晶設計中設計數據（CAD數據）的模式。 各種曝光方法已被多家公司開發并應用于設備中。
曝光設備的應用
曝光設備主要用于半導體制造現場和平面顯示器（FPD），包括液晶顯示器。
在半導體制造中，硅晶圓被用作基板形成氧化膜，然后涂上光阻（光導體），然后通過光罩照射照射從曝光裝置發出的強紫外線到涂層表面，從而通過蝕刻等工藝去除不必要的區域。 這種使用曝光設備的方法稱為光刻。
在液晶顯示制造過程中，通常使用玻璃基板，金屬及其他薄膜會重復多次薄膜形成、光刻和蝕刻的循環。
在一個基板上，可以形成像素電極和開關元件（如TFT元件），而在另一個基板上，可以形成具有三種原色光（紅、綠、藍）的彩色濾光片。 通過將兩個基板結合在一起并在中間放置液晶材料，液晶顯示屏面板就完成了。
選擇曝光設備時價格昂貴，因此購買前必須與設備制造商充分討論所用光源類型、精度及舞臺精度。
曝光設備的原理
讓我來解釋一下曝光裝置的測量原理。 曝光設備包括光源、偏轉透鏡、光罩、聚焦透鏡、舞臺和用于運輸硅晶圓的機器人。
鏡頭和光罩設計極其精密，舞臺操作精準。 在操作過程中，曝光目標被精確固定在舞臺上。 在操作過程中，舞臺隨著每次曝光移動，在整個曝光目標中描繪出眾多圖案。
光源發出的短而強波長的光被偏轉透鏡對準并照射到光罩上，作為電路圖案形成的原型。 通過光罩的光會被聚光鏡聚焦，該透鏡將極小的電路圖樣映射到被曝光的目標上。
一旦整個目標區域的曝光完成，就會由機器人或類似設備運輸。 有些產品允許暴露目標穿透液體，從而實現更高的精度曝光。
關于曝光設備的其他信息
1. 曝光設備的份額
2018年，半導體光刻設備制造商以歐洲（84%）和日本（14%）為主導，歐洲和日本的制造商幾乎壟斷了市場。 此外，液晶顯示器的FPD（平面顯示器）光刻設備幾乎被兩家日本制造商壟斷。
半導體暴露設備被認為是精密的機器，最新的半導體已極度微型化，芯片上的布線寬度（工藝規則）被縮減至3~5納米。
關于FPD光刻設備，最新的線寬僅幾微米，且這些器件每年都在變得更薄、越來越大，配備更高的精度和更大的設備，以實現更美觀、更高清的圖像。
2. 關于極紫外光刻設備
在半導體光刻設備中，極紫外（EUV）光刻設備使用極短波長的光，稱為極紫外光。
使用傳統ArF準分子激光的半導體光刻設備，使加工更細微但難以加工的尺寸成為可能。 半導體微型化是根據摩爾定律進行的（半導體集成電路在三年內實現了四倍的集成度和功能）。
迄今為止，我們通過縮小投影曝光技術（步進器）、縮短曝光波長以及開發沉浸式曝光技術，大幅提升了分辨率。 微型化意味著可烘烤到晶圓上的最小加工尺寸變小，該最小加工尺寸R由以下瑞利公式表示。
R = k·λ/NA *k 是比例常數，λ 是曝光波長，N.A. 是曝光光學系統的孔徑數。
通過各種技術發展，通過使k變小、λ變小、NA變大，實現了微型化。 極紫外光刻設備被認為是一種可以通過縮短曝光波長克服以往限制的技術，近年來已實現大規模生產。
3. 關于FPD光刻設備
FPD（平面顯示器）可以在各種場合出現，如液晶顯示器、等離子顯示屏和OLED顯示器，包括智能手機、平板電腦和家庭平板電視，既在家庭中，也在城市周邊地區出現。
FPD光刻設備用于制造平板顯示器。原則上，它與半導體制造設備相同：它將光照射到光罩上，通過透鏡在玻璃板上曝光電路圖案，并形成陣列。
此外，還創建了色彩濾鏡以生成顯示圖像和視頻，并結合數組，完成了顯示。 彩色濾鏡是一種用于表示圖像或視頻顏色的濾鏡，其中顏料基色阻劑涂在玻璃上以實現曝光和顯影。
