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日本愛發科ULVAC正式發布GLD-N280雙級油旋片真空泵上新
日本愛發科ULVAC正式發布GLD-N280雙級油旋片真空泵上新
日本愛發科ULVAC正式發布GLD-N280雙級油旋片真空泵上新，以高效真空技術賦能半導體與工業制造領域
全球真空技術綜合解決方案供應商日本愛發科（ULVAC）今日正式面向中國市場推出GLD-N280雙級油旋片式真空泵。作為GLD-N系列中的中大抽速代表機型，GLD-N280延續了愛發科在油旋片泵領域數十年的技術積累，依托兩級排氣系統與強制供油機構兩大核心技術，以336L/min抽速、0.67Pa極限真空度、低噪音運行等綜合性能，成為面向半導體鍍膜、真空熱處理、制冷行業及中等規模工業真空應用的可靠選擇。
強勁抽速與高真空度的平衡
GLD-N280采用兩級排氣系統設計，兩個排氣腔串聯工作。相比單級排氣系統，雙級結構可獲得更低的極限壓力（更高的真空度）。氣體首先進入第一級泵腔被初步壓縮，隨后進入第二級泵腔進一步壓縮至大氣壓以上并排出泵外。50Hz電源條件下幾何抽速達336L/min，60Hz條件下達400L/min。極限壓力在氣鎮閥關閉狀態下可達0.67Pa，氣鎮閥開啟狀態下為6.7Pa。這一性能指標可滿足真空鍍膜、真空熱處理、分析儀器等多數工業中低真空工藝對真空度和抽速的雙重要求。
應對可凝性蒸汽的氣鎮閥配置
GLD-N280配備的氣鎮閥是該型號的關鍵功能配置之一。在抽除含有水蒸氣等可凝性氣體的工況時，開啟氣鎮閥可向泵腔引入少量干燥空氣，提高混合氣體的露點，使水蒸氣在排氣閥打開之前不會凝結。這一設計有效防止水蒸氣在壓縮過程中與真空油混合形成乳化液，避免油品污染和泵體腐蝕，顯著延長泵油更換周期和設備使用壽命。用戶可根據工藝氣體成分靈活切換氣鎮閥開閉，在真空度與耐污染性之間取得平衡。
防逆流機構保障設備安全
GLD-N280內置防逆流機構，在因停電等突發情況停機時自動切斷油路，有效防止真空油返流至被抽真空腔室。對于半導體鍍膜、真空熱處理等對腔體潔凈度有要求的工藝，這一設計可避免因油污染導致的工藝缺陷和設備損失。
強制供油機構與穩定排氣
GLD-N280搭載強制供油機構，可確保排氣速度長期穩定。無論在大氣壓啟動階段還是在高真空運行階段，都能保障旋片與泵腔內壁的充分潤滑與密封。該泵支持直接在大氣壓下啟動，無需預抽即可開始工作。使用油品為ULVOIL R-7，所需油量為0.75～1.5L。
低噪音低振動運行
GLD-N280延續了GLD系列低噪音、低振動的家族特性。通過精密動平衡調校與優化的減震結構設計，實現安靜平穩運行，可直接部署于對噪音和振動敏感的生產與實驗環境。大尺寸油位視窗便于操作人員直觀觀察泵油量與污染狀態，及時進行維護。
寬電壓適配與靈活選型
GLD-N280搭載寬電壓馬達，支持三相200/380/400/415V（50Hz）及三相200/220/380/400/440V（60Hz）等多種電源規格，符合國際標準，可適配全球不同國家和地區的電網標準。吸氣口徑為KF-25標準接口，排氣口徑為G1。整機重量34.5kg，外形尺寸181×536×269mm，使用環境溫度范圍為7～40℃。
多元應用場景
GLD-N280廣泛應用于半導體鍍膜、真空熱處理、制冷行業、分析儀器及科研實驗等領域：在半導體制造中用于濺射、蒸鍍等鍍膜工藝的真空系統；在真空爐、真空釬焊、真空退火等熱處理設備中完成快速抽真空；在空調、冰箱等制冷設備生產線中用于抽真空和檢漏工藝；作為質譜儀、電子顯微鏡等精密分析儀器的真空源；在高校及科研院所的中等規模真空實驗裝置中配套使用。
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