體外細胞暴露系統通過高精度的溫控以及幾乎相等的氣溶膠流量控制，可持續、間歇、靜止的培養基交換更新方式，為體外氣液界面培養的細胞提供高精度氣溶膠暴露，同時因為其優異結構設計和精密的加工技術讓暴露系統內部培養的細胞因暴露因素以外的損傷更小（小于5%-15%，8小時持續暴露），實驗結構更合理更接近真實體內暴露情況。

■ 氣液界面暴露（ALI）;

■ 徑向結構及氣路設計，通道間實驗偏差RSD≤5%；

■ 6個細胞小室，可分成實驗組和對照組；

■ 每個小室培養液獨立供給，可提供持續流動，間隙流動以及靜態培養液供給。

■ 內置高精度電加熱，360°高精度恒溫控制，溫控精度37℃±0.2℃；

■ 內置自動控制高濕度控制，相對濕度≥95%；

■ 提供超微量培養液取樣口；

■ 暴露部分可以進行整體高溫高壓滅菌。

優良的徑向對稱分布結構模塊（Radially Symmetric Distribution）

體外細胞暴露系統是一款緊湊的6通道徑向對稱分布結構，每個通道間氣溶膠流量，溫度控制相同，快速鎖緊聯動機構，可快速啟閉暴露模塊。可實現高精度，高重復性，高穩定性細胞暴露染毒實驗。模塊支持12孔板和24孔板（即12mm和6.5mm細胞培養小室）。能用用于諸如納米顆粒，香煙煙氣，霧化氣溶膠，VOCs以及各種氣體氣溶膠的體外培養暴露。

氣液界面全自動控制系統

內置高精度質量流量控制，每個細胞小室內氣溶膠暴露流量控制范圍：5-30ml/min,精度≤±1.5%F.S，廢氣過濾效率：0.3微米的有效率應達到99.99%，噪音≤50分貝。

可擴展CO2自動控制通道，為長時間氣液界面暴露提供5%CO2條件。

氣液界面暴露配套模塊

獨立的液體控制模塊

雙泵頭蠕動泵可以為每個暴露腔室培養基可獨立供給，流量控制范圍0-10mL/min；可提供持續流動，間隙流動以及靜態培養液供給；

實驗結束后可為暴露模塊提供全自動的清洗功能。

ACP6全自動控制軟件

通過軟件全自動控制氣液界面暴露條件，并可對整體實驗方案進行保存并選用，主要界面包括：（1）氣密性自動檢測；（2）培養基自動加注；（3）過量培養基自控抽排；（4）實驗程序編輯；（5）自動清洗。支持各種氣溶膠發生器控制軟件的嵌入，實現一套軟件對暴露和氣溶膠發生的控制。

ACP6主要技術參數：

■ 應用范圍：能滿足細胞體外的良好培養并進行氣態、顆粒物（超細顆粒物及納米顆粒）、液態以及復雜化合物混合態物質在氣-液界面進行暴露（含病毒）；

■ 通道數：6為徑向結構設計，適用于Falcon或Transwell12孔板或24孔板規格的細胞培養小室；

■ 溫控范圍：集成式360度電加熱恒溫系統，溫度恒定為37℃，溫控精度≤0.2℃；

■ 相對濕度：≥95%，內置全自動控制濕度；

■ 每通道流量：流量范圍0-30ml/min，≤±1.5%F.S；

■ 培養基流量控制：0-10mL/min；

■ 廢氣處理：99.99%（@0.3微米）；

■ 控制軟件：主要界面包括：（1）氣密性自動檢測；（2）培養基自動加注；（3）過量培養基自控抽排；（4）實驗程序編輯；（5）自動清洗。支持各種氣溶膠發生器控制軟件的嵌入，實現一套軟件對暴露和氣溶膠發生的控制。