原始樣品液體 (E) 以高壓低速進入閥座 (B) ，經壓縮后沖擊閥門 (A) 。當樣品液體流經閥門 (A) 和閥座 (B) 之間狹窄的可調間隙時，其速度迅速增加，壓力則在排出時急劇下降。這種發生在微秒尺度上的集中能量傳遞會產生強烈的湍流，在顆粒離開間隙 (D) 時將其破碎并均質化。均質化的樣品液體(F)沖擊沖擊環 (C) ，并以下一工序所需的壓力排出。該均質閥有兩種類型：單級和雙級。對于需要破碎脂肪球的產品，使用該閥門進行雙級均質化可大限度地減少二次團聚的可能性。

高壓低速進入：物料被推入閥座。

極速壓縮與加速：被迫通過一道納米級可調縫隙，壓力能瞬間轉化為動能，流速驟增至超高速。

壓力驟降與能量釋放：沖出縫隙剎那壓力斷崖式下跌，在極短時間、極小空間內集中釋放巨大能量。

多重效應破碎：同時產生高速剪切、空穴效應（空化作用）、劇烈湍流與碰撞，實現對顆粒、液滴或細胞團簇的高效破碎與均質。

單級與雙級閥門：為應對不同工藝需求，我們提供兩種配置。雙級閥在實現初級強力破碎后，立即進行溫和的二次處理，能有效防止如脂肪球、研磨顆粒等物料的二次聚集，尤其適用于對穩定性要求高的乳制品、乳液及CMP研磨液，可獲得更均勻、更穩定的粒徑分布。

Part.02

五大核心優勢：為精密制造而生

我們的代表性機型（如 LAB1000/LAB2000系列）雖設計緊湊，卻集成了滿足應用需求的特性：

均質閥的材料可從樣品

它體積小巧，可以放置在工作臺上，并可使用專用支架移動 3低噪音設計確保安靜運行

“同向閥座"和“泵閥座"是可拆卸的，兩側均可使用

壓力表標配溫度傳感器，可通過顯示溫度來確認其有效性。標準產品采用陶瓷材質。

材質靈活，超凈耐腐：均質閥核心部件提供高性能陶瓷、特殊合金等多種材質可選，既能耐受強酸、強堿、高磨蝕性物料，更能滿足半導體級超高純凈度要求，杜絕金屬離子污染。
工藝可放大，風險極低：采用連續穩定輸送技術，確保從實驗室毫升級探索到產線噸級大規模生產的工藝參數高度一，極大降低了放大生產風險，加速產品上市。
智能監控，過程可視：設備集成溫度、壓力實時監測系統，為工藝研究與質量控制提供關鍵數據支撐，確保熱敏物料活性，并實現全過程可追溯。
維護便捷，總成本低：獨特的可拆卸、可翻轉使用的閥座設計，大幅降低核心耗材成本。設備運行穩定可靠，維護簡單，有效降低長期持有成本。
緊湊低噪，部署靈活：體積小巧，低噪音運行，可輕松部署于實驗臺、潔凈車間等多種環境，提升空間利用率與工作舒適度。

Part.03

跨行業應用：從生命科學到半導體芯制造

1. 食品與保健品

應用：制備納米乳液、果汁均質、牛奶均質、脂溶性營養素包裹。

價值：提升產品口感、穩定性、保質期與生物利用度，創造更健康、更美味的產品。

2. 藥品與生物技術

應用：制備脂質體、疫苗佐劑、細胞破碎、無菌混懸液。

價值：實現藥物靶向遞送，提高藥效，保障制劑均勻性與無菌性，加速新藥研發。

3. 化妝品與個人護理

應用：制備納米級精華液、防曬乳液、膏霜。
價值：提升產品膚感、吸收效率、活性成分穩定性及外觀質感，打造產品。

4. 半導體制造（CMP工藝）

應用： CMP化學機械拋光研磨液的分散、均質及脫泡。
價值：確保研磨液中氧化硅、氧化鈰等納米顆粒的高度分散與粒徑均一，極大減少晶圓表面的劃傷缺陷，提升拋光速率與均勻性，是保障芯片良率的關鍵前道材料處理環節。我們的設備能滿足半導體行業對超凈、無金屬污染、批次穩定性的要求。

Part.04

完整解決方案，助力產業升級

納加霍里科技不僅是設備供應商，更是您工藝創新的合作伙伴：

合規性支持：在 GMP、FDA 等方面擁有豐富經驗，可提供相應的文件與材質合規支持。

定制化開發：提供溫度控制、高粘度處理、無菌連接等多種套件，并支持特定工藝定制。

全周期服務：從方案設計、工藝驗證、安裝調試到售后培訓，提供全程專業服務。

無論您是要突破現有產品的品質瓶頸，還是開發面向未來的創新材料，納加霍里科技的超高壓均質解決方案都將是您值得信賴的精密制造工具。

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打破常規，煥新出發---NJHL壓力均質機

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