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哈美頓 Hamilton 液體處理工作站程序編輯與方法搭建指南

閱讀：72 發(fā)布時(shí)間：2026-8-11

　　一、哈美頓 Hamilton 液體處理工作站搭建前前期準(zhǔn)備

　　1. 實(shí)驗(yàn)方案梳理

　　明確實(shí)驗(yàn)流程：樣本分裝、試劑分配、梯度稀釋、萃取純化、PCR 體系配制、NGS 建庫(kù)等步驟；記錄每種液體體積、耗材類(lèi)型(深孔板、PCR 板、試劑槽、離心管架)、移液精度要求、液面探測(cè)模式、洗針流程。

　　2. 工作臺(tái)面布局規(guī)劃

　　在工作站軟件界面打開(kāi)工作臺(tái)地圖，匹配實(shí)際放置模塊：載架、恒溫模塊、磁珠分離模塊、洗站、廢液槽、吸頭倉(cāng)；

　　固定耗材擺放坐標(biāo)，避免程序運(yùn)行時(shí)機(jī)械臂碰撞；

　　區(qū)分消耗區(qū)(吸頭、一次性反應(yīng)板)、試劑區(qū)、樣本區(qū)、廢液清洗區(qū)，預(yù)留機(jī)械運(yùn)動(dòng)安全間距。

　　3. 硬件自檢與參數(shù)預(yù)設(shè)

　　開(kāi)機(jī)執(zhí)行整機(jī)初始化，完成 Z 軸、X/Y 軸原點(diǎn)回零；

　　運(yùn)行氣密性檢測(cè)、液面感應(yīng)傳感器校準(zhǔn)；

　　根據(jù)實(shí)驗(yàn)選擇通道頭(8 通道 / 96 通道 / 單通道)，設(shè)置吸頭類(lèi)型、最小 / 最大移液量程、液體粘度補(bǔ)償參數(shù)。

　　二、程序編輯基礎(chǔ)操作流程

　　1. 新建方法工程

　　打開(kāi)控制軟件，點(diǎn)擊新建 Method，命名實(shí)驗(yàn)名稱(chēng)、錄入實(shí)驗(yàn)人員、日期、版本編號(hào)，選擇對(duì)應(yīng)機(jī)型通道配置，保存工程文件。

　　2. 拖拽式流程模塊編輯

　　軟件采用模塊化拖拽編程，核心常用模塊：

　　Tip 吸頭操作：拾取吸頭、丟棄吸頭、吸頭預(yù)潤(rùn)洗；

　　液體轉(zhuǎn)移 Liquid Transfer：吸液、分液、反向吸液、梯度稀釋、多板重復(fù)分液；

　　清洗模塊 Wash：淺洗、深洗、高壓沖洗、去離子水 / 乙醇洗針；

　　溫控模塊 Thermo：孵育升溫、恒溫保持、降溫；

　　磁分離 Magnetic：磁珠吸附、上清吸取、重懸吹打；

　　板位移動(dòng)：轉(zhuǎn)運(yùn)微孔板、加蓋、去蓋；

　　循環(huán) Loop：批量樣本重復(fù)、多梯度循環(huán)；

　　邏輯判斷：液面缺失報(bào)警、吸液不足暫停、故障彈窗提示。

　　3. 移液核心參數(shù)精細(xì)化設(shè)置(關(guān)鍵步驟)

　　吸液 / 分液速度：高粘度緩沖液、甘油、血清降低吸排液速度；水相試劑使用標(biāo)準(zhǔn)速度；

　　液面探測(cè) LLD 設(shè)置：

　　導(dǎo)電液體(水溶液、緩沖液)開(kāi)啟電容式液面檢測(cè)；

　　油相、高絕緣試劑關(guān)閉 LLD 或啟用壓力探測(cè)；

　　設(shè)置安全下沉高度，防止戳穿管底；

　　吸液延時(shí)與預(yù)潤(rùn)洗：微量體系增加吸液等待時(shí)間，避免液體掛壁；珍貴試劑執(zhí)行 2～3 次吸頭預(yù)潤(rùn)洗，消除死體積誤差；

　　空氣隔段 Air Gap：轉(zhuǎn)移易揮發(fā)、易交叉污染試劑時(shí)設(shè)置空氣隔段，防止液體倒流污染通道。

　　4. 循環(huán)批量程序編輯

　　大批量樣本處理使用 Loop 循環(huán)功能：

　　設(shè)置循環(huán)起始板位、結(jié)束板位、單次處理樣本數(shù)量；

　　可嵌套多層循環(huán)：先樣本循環(huán)，再試劑梯度循環(huán)；

　　循環(huán)內(nèi)插入自動(dòng)洗針步驟，消除樣本間交叉污染。

　　三、完整實(shí)驗(yàn)方法搭建實(shí)操示例(PCR 體系配制)

　　工作臺(tái)布置：吸頭倉(cāng)、樣本 96 孔板、酶混合試劑槽、水試劑槽、PCR 反應(yīng)板、洗針站；

　　流程排序：機(jī)械臂拾取新吸頭→LLD 探測(cè)樣本液面→吸取樣本→轉(zhuǎn)移至 PCR 板→丟棄吸頭；

　　更換吸頭，預(yù)潤(rùn)洗酶試劑→分裝 Master Mix→超純水補(bǔ)齊體系；

　　每板結(jié)束執(zhí)行一次通道深度清洗；

　　添加恒溫模塊：4℃短時(shí)保存；

　　插入結(jié)束彈窗提示，記錄運(yùn)行完成日志。

　　四、程序校驗(yàn)與仿真模擬

　　離線仿真模擬

　　編輯完成后開(kāi)啟模擬運(yùn)行，無(wú)機(jī)械動(dòng)作，軟件模擬機(jī)械臂運(yùn)動(dòng)軌跡，檢查是否存在坐標(biāo)越界、板位沖突、吸頭干涉，修正布局與坐標(biāo)參數(shù)。

　　空載試運(yùn)行

　　不放任何液體與耗材，空跑完整程序，觀察運(yùn)動(dòng)有無(wú)卡頓、碰撞報(bào)警，修正運(yùn)動(dòng)速度、升降高度。

　　小體積預(yù)實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證

　　使用純水替代試劑小批量試跑，收集反應(yīng)板稱(chēng)量 / 分光檢測(cè)，驗(yàn)證移液 CV 精度；若誤差偏大，調(diào)整吸排液速度、空氣隔段、預(yù)潤(rùn)洗次數(shù)。

　　五、程序保存、導(dǎo)出與版本管理

　　完成調(diào)試后保存主方法，另存副本用于后續(xù)修改；

　　支持導(dǎo)出 PDF 程序報(bào)告，包含臺(tái)面布局、每一步參數(shù)、移液體積、循環(huán)邏輯，用于實(shí)驗(yàn)室記錄歸檔；

　　重要實(shí)驗(yàn)方法設(shè)置密碼鎖定，防止誤修改；迭代修改時(shí)標(biāo)注版本變更記錄。

　　六、常見(jiàn)程序報(bào)錯(cuò)與參數(shù)優(yōu)化方案

　　液面探測(cè)無(wú)信號(hào)：LLD 靈敏度過(guò)低，調(diào)高探測(cè)閾值，檢查液體導(dǎo)電性能；

　　移液精度偏差大：增加預(yù)潤(rùn)洗、降低吸液速度、增設(shè)空氣隔段；

　　機(jī)械臂碰撞：修正板位坐標(biāo)，抬高 Z 軸安全高度，縮小運(yùn)動(dòng)速度；

　　試劑交叉污染：縮短同吸頭連續(xù)使用次數(shù)，增加中間深度洗針流程；

　　吸液氣泡過(guò)多：延長(zhǎng)吸液等待時(shí)間，降低下沉深度，避開(kāi)液面泡沫層。

　　七、搭建規(guī)范與注意事項(xiàng)

　　高致病性、熒光、放射性樣本程序中增加乙醇、廢液沖洗流程，防止通道殘留污染；

　　易揮發(fā)試劑全程設(shè)置空氣隔段，避免腐蝕內(nèi)部閥組；

　　長(zhǎng)期靜置液體體系，程序中增加吹打混勻模塊，防止溶質(zhì)沉降；

　　編輯程序時(shí)分步保存，避免軟件閃退導(dǎo)致流程丟失；

　　不同實(shí)驗(yàn)專(zhuān)用獨(dú)立方法，不混用參數(shù)，降低交叉干擾風(fēng)險(xiǎn)。

　　八、程序復(fù)用與快速搭建技巧

　　保存標(biāo)準(zhǔn)化子流程模板(如磁珠純化、梯度稀釋模板)，新建實(shí)驗(yàn)直接調(diào)用；

　　采用變量參數(shù)設(shè)置，批量修改試劑體積、孵育時(shí)間，無(wú)需逐行編輯；

　　哈美頓 Hamilton 液體處理工作站多通道同步分配試劑，優(yōu)化運(yùn)行節(jié)拍，縮短整體實(shí)驗(yàn)耗時(shí)。

哈美頓 Hamilton 液體處理工作站程序編輯與方法搭建指南

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