
前期準備
設備檢查:檢查設備外觀是否有損壞,各部件連接是否牢固,電源、氣源是否正常且符合要求。確保設備的潔凈度符合標準,如有必要,對設備內部進行清潔。
晶圓及周邊配置:確認待處理晶圓為 8 英寸或 12 英寸規格。根據需要選配 Wafer ID Reader、RFID、尋邊器等周邊模塊,并確保其正確安裝和配置。
操作流程
系統啟動:接通電源,按照操作界面提示進行系統啟動和初始化,等待自檢完成,使設備處于待機狀態。
晶圓裝載:將裝有晶圓的晶舟盒放置在裝載端口,設備自動定位和固定晶舟盒。通過控制系統選擇晶舟盒類型、晶圓尺寸等參數,設備打開晶舟盒蓋子,利用真空吸取等方式逐一取出晶圓。
晶圓移載:內置的潔凈機器手臂根據預設程序和路徑,將晶圓搬運到指定處理位置。搬運過程中,系統可通過條形碼、卷標及字符辨識等功能,對晶圓進行精確識別和定位,確保準確放置。
晶圓處理與監控:晶圓在處理設備中進行工藝處理時,EFEM320-D02 系統可提供實時影像監控,以便操作人員及時了解晶圓處理情況。同時,系統的自動壓力控制系統會根據環境壓力變化,調節風扇轉速以保持設定值,確保微環境穩定,防止晶圓受到污染。
晶圓卸載:處理完畢后,機器手臂將晶圓從處理設備中取出,搬運回晶舟盒,設備自動關閉晶舟盒蓋子,然后卸載晶舟盒。
操作界面與控制
人機接口:通過操作界面的按鈕、觸摸屏等,可靈活設定晶圓運送規則、路徑、速度等參數。界面實時顯示設備運行狀態、晶圓位置信息、故障報警信息等。內建手臂取放宏指令,方便用戶操作手臂。
通訊接口:支持 RS-232、Ethernet 等通訊接口,可與工廠其他設備和管理系統連接,實現自動化控制和信息化管理。
安全注意事項
操作人員需嚴格遵循設備操作手冊和規程,不得隨意更改參數設置。
設備運行時,避免接觸運動部件,防止意外傷害。定期對設備進行維護保養,確保安全性能和運行穩定性。
由于系統符合 SEMI S2 設計標準,操作人員應遵守潔凈室管理規定,穿戴好潔凈服、口罩、手套等,維持設備和晶圓所處環境的潔凈度。