日本ITOH伊藤制作所研缽耐藥研缽 PEX-60的使用方法

時間：2025/12/19閱讀：394

日本 ITOH PEX - 60 耐藥研缽為高分子耐藥樹脂材質，適配酸堿 / 有機溶劑等腐蝕性樣品的微量研磨，注意事項與適配限制內容：

一、使用前準備

1.物料適配確認：適配莫氏硬度≤3 的軟質 / 脆性樣品，像制藥中間體、精細化工品、生物樣品、腐蝕性礦物粉末等都適用；嚴禁研磨金剛石、剛玉、石英等超硬物料，防止損傷缽體。

2.研缽與研棒檢查：核對 PEX - 60 缽體（內徑約 50mm，外徑約 60mm）與配套耐藥樹脂研棒，確保表面無裂紋、劃痕、變形，研棒與缽體貼合度良好；檢查密封配件（如適用）是否完好，避免研磨時樣品泄漏或揮發。

3.環境與安全準備：研缽放置在防滑橡膠墊或實驗臺上，佩戴耐化學腐蝕手套、護目鏡；處理強揮發性 / 腐蝕性樣品時，要在通風櫥內操作，必要時使用配套密封蓋或開孔防護片。

4.裝樣量控制：手工研磨裝樣量不超過缽體容積 1/3（約 5-8g），機械研磨不超過 1/2，避免物料飛濺與研磨不均。

二、手工研磨操作步驟

1.樣品預處理：大塊樣品先剪碎或壓碎至粒徑≤5mm，避免直接搗碎損傷缽體與研棒。

2.研磨操作：研棒垂直置于缽體中心，以圓周方向輕壓旋轉研磨，保持力度均勻，避免局部過度施壓；干磨時控制研磨速度，防止樹脂發熱軟化；濕磨可加入少量適配溶劑（如乙醇、丙酮，避免強氧化性溶劑），提升研磨效率與粒度均勻性。

3.樣品收集：研磨至目標粒度（通常為微米級）后，用 PE/PTFE 材質刮刀沿缽壁刮取，別用金屬刮刀，防止刮傷內壁；微量樣品可借助洗耳球吹取收集。

三、機械研磨適配與操作（適配小型振動 / 行星球磨機）

1.設備適配：選用 ITOH LP - M2 等小型球磨機，搭配 PEX 系列專用夾具，確保研缽固定無晃動。

2.參數設置：轉速控制在 100-300rpm，研磨時間 5-30min，可根據物料特性調整；機械研磨優先選擇濕磨，減少樹脂磨損與樣品污染。

3.運行監控：啟動后密切觀察運行狀態，若有異常振動需立即停機，檢查研缽固定情況與物料量。

四、清潔與維護流程

1.初步清潔：使用后立即用清水或適配溶劑沖洗，清除殘留樣品，避免物料干結；禁用金屬刷子或硬質清潔工具，防止劃傷內壁。

2.深度清潔：若有頑固污漬，可加入少量中性洗滌劑，用 PE/PTFE 軟刷輕輕刷洗，之后用純水或溶劑沖洗 3-5 次；可進行超聲清洗（功率≤100W，時間≤5min），避免長時間超聲導致變形。

3.干燥與存放：自然晾干或在 60℃以下低溫烘干，嚴禁高溫烘烤；存放于干燥、無腐蝕性氣體的環境，研缽與研棒分開收納，避免相互擠壓劃傷。

五、核心使用禁忌與注意事項

1.禁止與qin氟酸、王水、強氧化劑（如高錳酸鉀、濃硫酸）等接觸，防止材質被腐蝕降解。

2.嚴禁研磨超硬物料、易燃易爆物、強磁性樣品，避免缽體損傷與安全風險。

3.機械研磨時不得超過設備zui大轉速與研缽適配負荷，防止樹脂疲勞斷裂。

4.長期不使用時，要定期檢查材質狀態，發現裂紋、變形需立即停用。

六、適配與限制場景

適配場景方面，樣品類型上，適合制藥、化工、環境領域的腐蝕性軟質樣品研磨；研磨方式上，適配手工微量研磨和小型機械研磨；分析適配方面，可用于 HPLC、UV 等常規成分分析。限制場景方面，超硬物料以及強氧化性、強酸性樣品不適合用該研缽研磨；大型行星球磨機、高速研磨等方式也不適用；對于 ICP - MS、XRF 等高精度超純分析場景，也不建議使用。