超高分辨率！富士OiR 620：i-Line光刻膠成熟制程

時間：2026/3/14閱讀：234

富士膠片OiR 620是一款面向0.30μm級關鍵層量產的gao端i-Line（365nm）正性光刻膠，專為非反射襯底設計，以超高分辨率、寬工藝窗口、高產能適配為核心，破解傳統i-Line光刻膠分辨率不足、工藝容錯率低的局限，廣泛應用于邏輯IC、PMIC、汽車電子等成熟制程的光刻工藝。以下按序號梳理其核心技術要點，簡潔實用、重點突出。

一、核心技術參數

適用波長：i-Line（365nm），專為非反射襯底優化，適配成熟光刻設備；
分辨率：常規照明＜0.28μm，環形照明可縮至0.25μm，覆蓋0.35μm–0.30μm節點；
曝光靈敏度：220 mJ/cm2，平衡分辨率與產能，適配高產量i-Line步進機；
焦深（DOF）：0.35μm L/S＞1.2μm（常規照明），0.30μm L/S＞1.0μm（常規照明）；
體系與適配：酚醛樹脂+DNQ感光劑，EL/EEP環保溶劑，適配0.262N TMAH標準顯影液。

二、核心產品特點

超高分辨率，適配關鍵層量產：常規照明即可實現＜0.28μm線寬，側壁陡直，CD均勻性優異，滿足0.30μm級關鍵層需求；
寬工藝窗口，良率可控：對焦距、曝光劑量、顯影時間寬容度高，焦深表現突出，量產良率穩定；
環保溶劑體系，安全合規：采用EL/EEP低毒環保溶劑，替代傳統高毒溶劑，符合職業健康與環保要求；
工藝兼容性強，易集成：適配標準顯影液與i-Line光刻流程，無需設備改造，可與有機BARC兼容；
非反射襯底專用，性能Ji致：專為氧化層、氮化層等非反射表面優化，抑制駐波效應，圖案保真度高。

三、使用注意事項

使用前需根據現場光刻設備參數，校準曝光劑量與顯影時間，確保圖案精度；
僅適配非反射襯底，強反射襯底（如鋁、銅金屬層）需選用OiR 674等專用型號；
避免用于＞0.35μm非關鍵層（性價比低）、＜0.25μm xian進制程（需KrF/ArF光刻膠）；
存儲需置于15℃-25℃、干燥避光環境，密封保存，避免受潮、暴曬與污染；
操作時做好防護，避免光刻膠接觸皮膚與黏膜，廢棄膠液需按環保標準妥善處理。

綜上，富士OiR 620以“高分辨率、寬工藝窗口、易集成"的優勢，成為0.35μm–0.30μm成熟制程的優選i-Line光刻膠，助力企業提升光刻良率與生產效率。

超高分辨率！富士OiR 620：i-Line光刻膠成熟制程

一、核心技術參數

二、核心產品特點

三、使用注意事項

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