在光氧化還原催化、平行合成、反應條件篩選以及細胞光照實驗中,LED光源工作時會產生熱量。隨著照射功率和運行時間增加,光源與樣品的溫度可能發生變化,進而影響反應速率、選擇性、實驗重復性以及生物樣品狀態。
因此,在選擇Lumidox® II LED陣列時,除了波長、孔位規格和光功率外,還需要區分三個不同的問題:光源是否得到有效散熱、樣品是否需要維持在設定溫度,以及實驗是否需要主動加熱或制冷。
Lumidox II LED陣列提供主動冷卻底座、實體底座和流道冷卻底座。三種底座首先解決的是LED陣列自身的散熱問題,但它們對樣品溫度的影響并不相同。
主動冷卻底座內置風扇,不需要外接循環冷卻設備即可對LED陣列進行散熱。不過,風扇的主要作用是降低光源內部溫度,并不能將樣品自動控制在某個設定溫度。
例如,使用主動冷卻底座進行96孔板光照時,即使光源本身處于正常工作狀態,樣品溫度仍可能受到光功率、照射時間、孔板材質、液體體積和環境溫度影響。因此,對溫度敏感的實驗仍建議對樣品溫度進行監測。
主動冷卻底座具有獨立散熱能力,使用相對簡便,適合以下情況:
常規96孔板光照實驗;
細胞或生物樣品光照;
中低光功率實驗;
不方便配置外部循環設備的實驗室;
對樣品溫度沒有嚴格設定值,但希望控制光源自身溫升的應用。

主動冷卻底座內置風扇,不適合直接處于強磁場環境。若實驗需要使用滾軸式、翻滾式或其他能夠產生較強磁場的攪拌裝置,應提前確認風扇是否會受到干擾。
Lumidox II陣列可在37℃、95%濕度的培養環境中運行,但具體應用仍需考慮孔板適配、冷凝、滅菌要求及實驗室操作規范。
實體底座不具備內置風扇,需要外部散熱條件。常見方式是將實體底座與Thermal Transfer Deck(TTD)連接,再由外部循環設備提供冷卻液。
在這種配置下,熱量通過金屬底座和TTD傳遞至循環液體,從而對LED陣列進行散熱。與主動冷卻底座相比,實體底座更適合較高光輸出或需要與外部溫控裝置組合的實驗。

需要注意,實體底座加TTD并不意味著樣品溫度會自動等于循環設備的設定溫度。樣品實際溫度還會受到反應塊、容器、液體體積、環境溫度、照射功率及熱傳遞效率影響。
流道冷卻底座內部設有液體流道,可以直接連接外部循環冷卻設備。冷卻液從陣列底座內部流過,直接帶走LED產生的熱量,因此不需要額外配置TTD來冷卻光源。
這種底座主要適合:
較高光功率實驗;
長時間連續照射;
對光源散熱效率要求較高的應用;
需要縮短陣列整體高度的裝置;
需要配合部分攪拌或振蕩設備的實驗。

流道冷卻底座的主要作用仍然是冷卻LED陣列。如果用戶需要準確控制反應樣品溫度,還需要結合溫控反應塊或其他樣品溫控裝置。
Lumidox II控制器和主動冷卻底座本身不具備設定樣品制冷溫度的功能。
如果實驗需要將樣品維持在低于室溫的條件下,一般需要配置:
實體底座或相應光源陣列;
TTD或Temperature Controlled Reactor;
具有制冷能力的外部循環設備;
相應的管路、接頭和導熱結構;
樣品溫度檢測裝置。
TTD連接外部循環設備后,可以作為冷卻板使用。對于采用反應瓶進行平行光化學實驗的用戶,還可以考慮Temperature Controlled Reactor(TCR),通過循環液體對反應容器進行溫度控制。
Lumidox II控制器不直接控制樣品加熱,主動冷卻底座也不具備樣品加熱功能。
如果外部循環設備同時具備加熱能力,TTD可作為加熱板或冷卻板使用,將熱量傳遞給反應塊或樣品容器。TCR也可以與外部循環加熱或制冷設備配合,用于需要設定反應溫度的光化學實驗。
因此,Lumidox II系統可以組成具有加熱或制冷能力的實驗裝置,但熱源或冷源來自外部循環設備,而不是LED控制器本身。
TTD屬于熱傳遞平臺,可以連接外部循環加熱或制冷設備。它可以用于:
冷卻Lumidox II實體底座陣列;
對樣品容器或反應塊進行加熱;
對樣品容器或反應塊進行制冷;
與其他熱傳遞附件組合使用。
廠家給出的TTD建議溫度范圍為-40℃至80℃。該范圍是裝置的建議工作范圍,并不代表所有樣品都能在這一范圍內保持相同的實際溫度。
TCR屬于溫控反應裝置,主要面向多瓶平行光化學實驗。與適配的Lumidox II陣列及外部循環設備組合后,可以對多個反應容器進行加熱或制冷。
廠家公布的TCR設計使用溫度范圍為-40℃至82℃。在規定的配套條件下,溫度均勻性指標可達到±1℃。實際配置時需要確認反應瓶規格、孔位數量、光源間距、循環設備能力以及LED陣列型號。
| 實驗需求 | 建議考慮的配置 |
|---|---|
| 常規光照,不配置循環設備 | 主動冷卻底座 |
| 細胞或生物樣品光照 | 主動冷卻底座,并監測樣品溫度 |
| 較高光輸出 | 實體底座加TTD,或流道冷卻底座 |
| 長時間連續照射 | 優先考慮外部循環冷卻 |
| 需要準確控制反應瓶溫度 | TCR加外部循環設備 |
| 需要加熱樣品 | TTD或TCR加循環加熱設備 |
| 需要將樣品降至室溫以下 | TTD或TCR加循環制冷設備 |
| 需要使用強磁場攪拌裝置 | 避免直接選擇可能受磁場干擾的主動冷卻底座 |
| 只需要冷卻LED,不需要TTD | 流道冷卻底座 |
循環設備顯示的是循環液體或設備內部的設定溫度,不一定等于樣品內部的真實溫度。兩者之間可能存在溫差和響應時間。
影響樣品溫度的主要因素包括:
LED陣列的波長和光輸出;
照射持續時間;
樣品體積;
容器材質和壁厚;
反應塊與容器的接觸情況;
循環液體溫度和流量;
環境溫度;
攪拌方式;
是否使用保溫蓋或其他熱傳遞附件。
對于溫度敏感的實驗,建議將溫度探頭放置在具有代表性的樣品位置進行驗證,不應只記錄循環設備的設定值。
為了確認Lumidox II溫控配置,建議用戶提供:
使用96孔板、24孔板還是玻璃反應瓶;
樣品容器的品牌、型號、尺寸和材質;
目標照射波長;
單次照射時間和光功率要求;
目標溫度及允許波動范圍;
是否需要低于室溫運行;
是否需要主動加熱;
是否需要磁力攪拌或振蕩;
單次運行的樣品數量;
實驗室是否已有循環加熱或制冷設備。
曦源科儀可根據實驗條件,協助用戶確認Lumidox II陣列規格、底座類型、TTD、TCR、循環設備及樣品容器之間的適配關系。
如需了解Lumidox II光化學LED陣列的溫控配置,可聯系曦源科學儀器(上海)有限公司,并提供樣品容器、目標波長、照射時間及溫度要求,以便進一步確認配置。
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