采用開發高輸出燈與無風險遮罩專用的投影曝光，以達到符合基板收縮、組裝及多層類型之高精確度重合的Ushio投影曝光裝置。介紹適用于晶圓、玻璃基板、陶瓷基板、滾壓基板、印刷基板等各種基板之Ushio大面積投影曝光的主要技術。

光源技術

適于投影曝光裝置之專用設計

身為光源制造廠的Ushio，對以半導體與液晶步進機為首之曝光裝置，提供高電源、高穩定的紫外線光源（UV燈）。 大面積投影曝光裝置「UX系列」在開發曝光裝置的同時，開始進行光源的開發，并采用可在所有的曝光裝置上，發揮光學類特性的專用設計光源

照明光學技術

轉變為理想的「光源」

有效集中燈具放射的光源，可以高度均勻、高平行之方式照射遮罩的照明光學系統。于各個鏡面實施特殊涂裝，可執行曝光波長的選擇與熱線的阻隔。
Ushio的照明光學系統技術，源自于1960年開始的SPACE CHAMBER用太陽能模擬器的開發，以高度的光學技術為起始。之后，對許多半導體與液晶用曝光裝置提供照明光學系統，并提高曝光裝置用光學系統的完成率。
「UX系列」的照明光學類，充分運用過去的專業知識與實績，備有燈光輸出或曝光波長相關的各種應用方案等，以提供適合制程的理想平行光投影光學系統。

投影光學技術

1. 可做到「深入的焦點深度」「無風險」

Ushio注重遮罩與工件未接觸之無遮罩風險的投影曝光方式，開發出過去難以做到的大面積與低扭曲變形之投影光學系統。

2. 投影鏡頭

Ushio獨特的投影鏡頭是具有曝光范圍200mm、及解析度5μmL/S規格的低扭曲鏡頭的旗艦機種。適用于多樣化需求的光學設計，在維持較深的焦點深度下，開發出各種曝光面積與解析度之投影鏡頭，并推出系列產品

3. 可改變投影倍率

檢測伴隨基板伸之類型伸縮，并自動調整投影倍率至最大±0.1%。問題在于伸縮較大的工作重合曝光，可防止重合偏移，以達到的選擇與調整。

1. 高精確度位置對準

Ushio的大面積投影曝光裝置，采用獨特的「TTL非曝光波長校正」之自動校正功能。個別檢測出遮罩與工作的校正記號，以分別經由影像處理固定在XY座標軸上執行對準位置的方式，具備如下的特徵。

2. TTL非曝光波長校正

1. 整體涂鉻的開口部較小遮罩，亦可經由個別觀察遮罩與工 件，輕易發現工作記號。

2. 隔著遮罩觀察并非降低亮度，而是可以清楚的記號執行校正。

3. 即使是在下述影響下亮度較低的記號，亦可通過照明方法的選擇(亮視野/暗視野照明)與波長選擇，提高目視確認性的效果。

3. 類型比對方式

1. 即使無專用校正記號，亦可以影像辨識的方式，執行記錄各種配線圖案的校正。

2. 可配合校正記號，選擇各種自動校正運算規則。(參考法、重心檢測)

搬運技術

符合各種工件應用軟件

從晶圓、彈性基板、印刷基板等開始，備有適于各種工件之高精確度搬運系統。 此外，活用廣泛曝光范圍之全面曝光，更適用于面積工件之步進&重復曝光等，符合各種曝光需求的曝光臺還支援有效率、穩定的處理。