真空獲取設備是愛發科產品線根基，分為干式真空泵、低溫冷凝泵、油旋片泵三類，原理各有區分。干式螺桿 / 多級羅茨干泵采用無油容積式壓縮原理，電機驅動兩組精密轉子同步反向旋轉，轉子與泵腔無物理接觸，依靠極小間隙分隔腔體容積，進氣側吸入工藝氣體后，隨轉子轉動腔體容積持續縮小，完成氣體壓縮并從排氣端排出，全程無潤滑油接觸氣體杜絕油蒸汽污染晶圓、光學基板風險。愛發科漸變螺桿齒形，優化氣體壓縮曲線，同等抽速下功耗降低 30%，耐腐蝕機型內部采用特種涂層，可穩定抽取刻蝕、鍍膜產生的腐蝕性尾氣與粉末雜質，適配量產產線連續運行。低溫冷凝泵依托極低溫吸附凝縮原理，泵內制冷模塊將吸附板降至 20K 以下超低溫，真空腔中所有氣體分子碰撞低溫板面后直接凝結、吸附鎖定，一次性實現超高潔凈超高真空，無壓縮機械磨損，抽氣速度遠超離子泵，是濺射、光學鍍膜設備標配前級高真空源，僅需定期升溫再生釋放捕獲氣體即可重復使用ULVAC SHOW...。油旋片泵依靠離心密封壓縮，旋片隨轉子高速滑動貼合泵壁，分段壓縮空氣完成粗抽，多用于實驗室低真空場景。

真空測量類產品以熱傳導皮拉尼真空計、B-A 電離真空計為核心。皮拉尼真空計基于氣體熱傳導與壓力正相關物理特性，探頭內置恒溫鉑絲，氣體分子撞擊熱絲帶走熱量，壓力越高熱損耗越大，電路通過實時補償加熱電流換算真空度，搭配內置 NTC 熱敏電阻消除環境溫度干擾，精準覆蓋粗、中真空區間（103~10?1Pa）。電離真空計適用于高 / 超高真空，熱陰極燈絲釋放高速電子，電子與腔體內殘余氣體分子碰撞使其電離，正離子被收集極捕獲生成離子電流，電流數值直接對應殘余氣體濃度，可檢測 10?2~10?11Pa 極限真空，為半導體薄膜工藝提供實時真空閉環控制信號。

氦質譜檢漏儀依托氦氣質譜篩選原理，氦氣分子質量數分子直徑極小且惰性無毒，設備內置質譜分析管，區分真空腔體滲漏進入的氦離子，精準定位微小漏孔，漏檢精度可達 10?12Pa?m3/s，保障真空腔體密封性，避免工藝氣體外泄、外界雜質滲入造成產品報廢ULVAC SHOW...。

真空成膜設備（濺射、蒸發、刻蝕機）集成上述真空單元協同工作。濺射設備先由干泵粗抽、冷凝泵建立高真空，再向腔體通入工藝氬氣電離生成等離子體，高能離子轟擊靶材表面，靶材原子被濺射剝離均勻沉積在晶圓基板；蒸發設備通過電阻 / 電子束加熱靶材至汽化，真空環境下蒸汽直線沉積形成均勻光學薄膜；刻蝕設備利用等離子體化學物理作用精準刻蝕半導體晶圓微結構，整套系統依靠真空計實時反饋壓力，自動調節泵組抽速維持穩定工藝真空環境愛發科真空...。

整體來看，愛發科全系產品底層邏輯統一圍繞精準控制氣體分子行為，區別于傳統真空設備，其核心技術亮點集中在無油潔凈結構、自適應壓力閉環、耐腐蝕模塊化材質、全量程真空匹配四大方向，從基礎真空泵到鍍膜設備形成完整技術閉環，解決精密制造中污染、真空不穩、設備易損耗三大行業痛點，是全球真空精密制造的核心配套方案。

無油潔凈真空底層邏輯：ULVAC 愛發科全系產品工作原理解析

會員登錄

收藏該商鋪

提示