山本鍍金 電鍍設備 硅片水槽 除雜質

A-52-ST 旋轉電鍍系統核心基體槽體配件，后綴數字區分 2/4/6/8/12 英寸適配規格；專屬匹配P02B/P02C 單面密封陰極卡匣做單面電鍍，區別 A-52-STD 雙面電鍍水槽，是整套單面晶圓電鍍的盛裝載體，不可獨立使用，搭配陽極架、攪拌槳、電源、溫控、液位組件構成完整電鍍單元

山本鍍金 電鍍設備 硅片水槽 除雜質

單面電鍍專屬構型

腔體內部空間匹配 P02B/P02C 密封型陰極卡匣布局，電場、流場針對單面沉積優化，適配背面隔絕式電鍍工藝，無法直接做雙面同步電鍍

雙層底溢流循環結構

槽底布液進流、外圈溢流回流，持續更新槽內藥液，抵消水分蒸發液位變化，陰極浸入深度恒定，多組平行試驗一致性強

內置循環過濾配置

可搭載 0.5μm 精密濾芯循環過濾，截留陽極碎屑、藥液顆粒，杜絕晶圓針孔、麻點缺陷，延長鍍液使用壽命。

兩種耐蝕材質可選

亞克力款：耐熱≤65℃，適配常規酸堿電鍍液，透明度高便于觀察槽內狀態、液面高度

PP 聚丙烯款：耐強腐蝕、耐溫性更優，適配高腐蝕性特殊鍍液工況

原廠模塊化精準適配

槽體開孔、安裝位一對一匹配 P09 陽極支架、P04D 往復攪拌槳、槽體專用加熱棒、A-60 液位傳感器，整套裝配無需改制調試，兼容 A-57 系列電鍍電源、B-93 溫控系統

流場優化適配高深孔填充

配合往復槳葉攪拌 + 晶圓旋轉，微孔內部藥液置換效率高，改善 TSV 盲孔、微結構單面填充效果，削弱邊緣電流集中效應。