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行業(yè)產(chǎn)品
當前位置:北崎國際貿(mào)易(北京)有限公司>>ITOH伊藤>>粉碎容器>> 45ml行星旋轉(zhuǎn)梅諾研磨容器 ITOH伊藤
| 參 考 價 | 面議 |
產(chǎn)品型號45ml
品 牌ITOH/伊藤
廠商性質(zhì)經(jīng)銷商
所 在 地北京市
更新時間:2026-02-03 13:29:41瀏覽次數(shù):100次
聯(lián)系我時,請告知來自 化工儀器網(wǎng)| 粉碎程度 | 超細磨機 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,能源,電子/電池,制藥/生物制藥,電氣 |
|---|---|---|---|
| 原理 | 其他 |
樣品中可能存在雜質(zhì),或者樣品與裝載時幾乎保持不變,盡管樣品和研磨套裝長時間不兼容。 因此,在進行實驗前選擇最合適的容器和球非常重要。 我們的容器有十多種不同材質(zhì),容量有四種:500毫升、250毫升、80毫升和45毫升。 我們還支持特殊形狀、尺寸和容量,請聯(lián)系我們。 它也可以用于其他廠商的機器。 研磨
時,通常使用與容器相同材料制成的球是安全的。 球體尺寸通常為φ10、15、20、25和30毫米,但最近有很多要求要求φ10毫米或更小,或φ1毫米或更大,且有一些庫存
行星旋轉(zhuǎn)梅諾研磨容器 ITOH伊藤 45ml
行星旋轉(zhuǎn)梅諾研磨容器 ITOH伊藤 45ml
· 梅諾
· 鋯石
· 氧化鋁(純度分為3種)
· 鉻鋼
· 碳化鎢
· 石英
· 尼龍
· 特氟龍
· 聚乙烯
· 不銹鋼
這是一個專為行星旋轉(zhuǎn)球磨機設(shè)計的專用容器,由高純度石英玻璃制成。 容器由高純度的實心石英玻璃制成,研磨介質(zhì)(球體)也使用相同的石英材料。 作為最硬的材料之一,污染量極小甚至幾乎不存在,非常適合研磨不喜歡污染的樣品。
容量:45、80、250、500毫升
該鍋由碳化鎢制成,這是一種超硬鋼,焊接部分厚度約為5毫米。
定義:通過機械力(沖擊、剪切、摩擦)將固體物料由大顆粒破碎成小顆粒,并使其均勻分散在介質(zhì)中的過程。
核心目的:
減小粒徑:達到所需的細度(從微米級到納米級)。
均勻分散:使多種組分(如顏料、填料)在液體介質(zhì)中充分混合,避免團聚。
增加比表面積:提高物料的反應(yīng)活性和使用性能。
研磨效果由以下三者共同決定,如同一個“系統(tǒng)工程":
| 要素 | 說明 | 常見類型/材料 |
|---|---|---|
| 1. 研磨設(shè)備 | 提供能量和實現(xiàn)研磨動作的機器。 | 砂磨機(最主流)、球磨機、三輥機、膠體磨等。 |
| 2. 研磨介質(zhì) | 在設(shè)備中運動,直接對物料施加沖擊和剪切力的珠子。 | 氧化鋯珠(高-端)、玻璃珠、鋼珠、氧化鋁珠等。 |
| 3. 研磨漿料 | 需要被研磨的物料體系。 | 由原料顆粒、分散劑、溶劑/樹脂等組成。 |
三者關(guān)系:設(shè)備是“舞臺",介質(zhì)是“演員",漿料是“加工對象"。必須根據(jù)漿料的特性(粘度、硬度、目標細度)來匹配介質(zhì)和設(shè)備參數(shù)。
研磨介質(zhì)是決定效率和成品質(zhì)量的關(guān)鍵。
| 介質(zhì)類型 | 主要成分 | 密度 (g/cm3) | 優(yōu)點 | 缺點 | 適用場景 |
|---|---|---|---|---|---|
| 釔穩(wěn)定氧化鋯珠 | ZrO? + Y?O? | 6.0 | 超高耐磨、極-高密度、化學惰性 | 價格昂貴 | 高-端鋰電池、電子漿料、醫(yī)藥、高硬度材料 |
| 硅酸鋯珠 | ZrO? + SiO? | 4.0左右 | 耐磨性較好,性價比高 | 密度硬度低于釔穩(wěn)定鋯珠 | 中高-端涂料、油墨、陶瓷色料 |
| 氧化鋁珠 | Al?O? | 3.6左右 | 硬度高,耐酸堿性好 | 脆性較大,易碎 | 農(nóng)藥、填料、中等硬度研磨 |
| 玻璃珠 | 硅酸鹽 | 2.5左右 | 價格低廉 | 易碎、磨損快、污染大 | 低要求的水性涂料、清潔劑等 |
| 鋼珠 | 碳鋼/不銹鋼 | 7.8 | 密度大,沖擊力強 | 易生銹、污染,不適用于多數(shù)化工品 | 礦業(yè)、磁性材料初磨 |
粒徑:珠子直徑。
大珠子(>1mm):沖擊力強,適合粗磨或高粘度漿料。
小珠子(0.1-0.6mm):數(shù)量多,接觸點多,剪切力強,適合精磨/超細研磨。
經(jīng)驗法則:珠子粒徑應(yīng)是目標粒徑的 10-30倍。研磨至納米級需用0.1mm左右的超細珠。
填充率:介質(zhì)體積占砂磨機研磨腔有效容積的百分比。通常為 50%-80%,需根據(jù)設(shè)備要求和漿料特性優(yōu)化。
漿料預處理:先-進行高速分散,打碎大的團聚體,形成均勻預混漿料,以保護研磨介質(zhì)和設(shè)備。
漿料粘度:需調(diào)整至合適范圍。過高導致溫升高、流動性差;過低則緩沖作用強,研磨效率低。
流量與滯留時間:在連續(xù)式砂磨機中,進料流量決定了物料在研磨腔內(nèi)的停留時間,直接影響研磨次數(shù)和最終細度。
轉(zhuǎn)速與能量輸入:轉(zhuǎn)子轉(zhuǎn)速影響介質(zhì)動能。轉(zhuǎn)速越高,能量越大,但升溫也越快,需平衡。
溫度控制:研磨會產(chǎn)生大量熱量,需通過夾套冷卻,防止溫度過高導致溶劑揮發(fā)、樹脂變性或漿料團聚。
粒度分布:最重要的指標,用激光粒度儀測量。追求 D50(中值粒徑)小 且 分布窄。
研磨效率:單位時間、單位能耗下達到目標細度的產(chǎn)量。
介質(zhì)磨損率:單位產(chǎn)量下介質(zhì)的損耗量,直接影響成本和產(chǎn)品純度。
產(chǎn)品性能:最終應(yīng)用測試,如涂料的光澤度、色差,電池漿料的涂布性能和電化學性能。
| 問題現(xiàn)象 | 可能原因 | 解決思路 |
|---|---|---|
| 細度不達標 | 介質(zhì)粒徑過大、填充率不足、流量過快 | 換小粒徑珠、提高填充率、降低流量 |
| 粒度分布過寬 | 介質(zhì)大小混雜、設(shè)備內(nèi)腔有死角 | 篩分介質(zhì)、檢查設(shè)備 |
| 溫度過高 | 冷卻不足、轉(zhuǎn)速過高、粘度太大 | 加強冷卻、降低轉(zhuǎn)速、調(diào)整配方 |
| 產(chǎn)能下降 | 介質(zhì)磨損變小、篩網(wǎng)堵塞 | 補加或更換介質(zhì)、清洗篩網(wǎng) |
| 產(chǎn)品污染 | 介質(zhì)破損、磨損雜質(zhì)混入 | 更換更耐磨介質(zhì)(如換為氧化鋯珠) |
研磨是一門 “平衡的藝術(shù)",需要在細度、效率、成本、污染控制等多個目標之間取得最-佳平衡。對于高-端制造而言,選擇像 ITOH伊藤 這類高性能、一致性好的研磨介質(zhì),往往是保證最終產(chǎn)品性能穩(wěn)定性和生產(chǎn)經(jīng)濟性的關(guān)鍵一步。理解整個系統(tǒng)的聯(lián)動關(guān)系,是進行工藝優(yōu)化和故障排除的基礎(chǔ)。
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